二手 TEL / TOKYO ELECTRON ACT 8 #9127709 待售

TEL/TOKYO ELECTRON ACT 8是一種用於半導體工業的光阻設備。光致抗蝕劑是對光敏感的材料，以液體或薄膜的形式施加在基板上。當受到紫外線輻射時，它們形成一種聚合物，可以在基板上形成均勻的蝕刻圖樣，然後可用於多種不同的應用，如照相光刻、掩蔽、薄膜沈積等等。TEL ACT 8是一種先進的光刻膠系統，提供可靠和可重復的結果。該單元以其高分辨率的能力而聞名，確保了整個基板的精確和一致的模式。光刻機可用於多種應用，包括需要高分辨率和高長寬比的，在半導體器件上工作時可能很重要。TOKYO ELECTRON ACT 8工具提供了旨在提供最高分辨率的過程控制。光掩碼用於指定曝光區域,然後在所需位置進行光阻。借助ACT8，光阻曝光精確、均勻，即使曝光不均勻。資產還有一個內置掃描儀，以協助光刻膠的對準。ACT 8光刻膠模型是許多半導體公司信賴的，因為它可以提供高質量的產品，具有可重復的結果和可靠性。它已被證明是生產用於半導體生產的小型復雜特性的有效和可靠的設備。此外,系統的設計考慮了環境保護,並采用低功耗組件構建。TEL/TOKYO ELECTRON ACT 8單元對於需要高分辨率和可靠結果的半導體公司和工程師來說是另一個有用的工具。它提供了更高的準確性和可重復性，使其成為在半導體器件上生產小巧細膩特性的絕佳選擇。