二手 TEL / TOKYO ELECTRON ACT 8 #9142704 待售

TEL/TOKYO ELECTRON ACT 8是一種光阻設備，用於制造電子器件，如集成電路（IC）、顯示面板和微機電系統（MEMS）。該系統基於圖樣傳輸技術，用於在基板表面創建精確圖樣。它由一個數字面膜寫入器、曝光單元、光刻膠、顯影劑、蝕刻劑和電鍍單元組成。該單元優化了工藝流程，簡化了光刻工藝。數字蒙版寫入器用於創建將轉移到基板上的蒙版模式。然後從紫外線光源或電子束光源（EBS）光源照射此掩模。光線的強度可以調整以允許不同深度的曝光。曝光裝置的設計提供了高精度和可重復性的模式傳輸。它包含一個精密的遮罩，以及高對比度的照明器和可調節的UV照明器，給用戶對曝光過程的終極控制。光致抗蝕劑是一種專門為吸收輻射和改變其特性而設計的聚合物。它在暴露於適當的紫外線波長或EBS時會變成可溶性。當達到所需的曝光水平時，光致抗蝕劑準備在顯影劑中清洗或浸入，以去除任何未暴露的區域。顯影劑是用來蝕刻和塑造基板表面的溶液。顯影劑需要不斷維護和監控，以確保光刻膠不會過度暴露。然後使用蝕刻劑切割、成形和光滑基板。它通過去除基板上的任何裸露區域起作用。可以對蝕刻工藝進行調整，精確地達到所需的寬度和深度。最後，電鍍單元可用於在基板上任何裸露區域添加金屬或合金塗層。塗層被塗在一個單一的裸露區域，以達到所需的形狀和大小。總之，TEL ACT 8光抗蝕機是在基板表面創建精確圖樣的理想工具。它有一個可快速輕松地創建掩模圖樣的數字掩模寫入器、一個可調節的UV/EBS光源以實現所需的曝光深度、一個用於確保圖樣正確曝光的光刻級、以及一個用於添加所需塗層或合金層的顯影劑蝕刻和電鍍級。這種全面的工具允許快速、準確和可靠的模式傳輸,以確保設備外觀完美。