二手 TEL / TOKYO ELECTRON ACT 8 #9145487 待售

TEL/TOKYO ELECTRON ACT 8是一種光刻（化學活性）設備，設計用於輔助生產集成電路。該系統利用感光化學物質或光致抗蝕劑在半導體基板表面上創建精確的圖像。光致抗蝕劑是一種感光材料，含有對光有反應的化學物質。TEL ACT 8單元包括光刻塗層模塊、對準模塊和UV曝光光源。光敏塗層模塊用於在晶片表面上均勻鋪展光敏，以創建一層適合後續曝光成像過程的層。對準模塊安裝在顯微鏡臺上，包含多個晶圓對準機構。對準機構引導晶片進入某些位置以進行適當的成像。紫外線曝光光源也安裝在顯微鏡階段。它利用UV光來暴露光致抗蝕劑，激活化學反應並產生將被轉移到下面底物的圖樣。此光源能夠創建特征大小小至5 nm的高分辨率圖像。光刻膠一經曝光，便使用處理模組來開發影像。這個模塊蝕刻掉未曝光的光刻膠，露出下面的圖案。成像過程完成後，進行進一步的處理步驟以完成電路。這可能包括烘烤、蝕刻和沈積。TOKYO ELECTRON ACT 8機高度可靠，處理速率高達每小時180晶圓。此外,它還能夠產生低至5 nm特征大小的陣列。該工具廣泛應用於半導體制造，以生產高屈服率的高性能電路。