二手 TEL / TOKYO ELECTRON ACT 8 #9151698 待售
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單擊可縮放
ID: 9151698
晶圓大小: 8"
Coater / developer system, 8"
Carrier station type: Open cassette
Wafer loading type: Left to right
Coater unit:
2-1 Unit:
Coater type: Coater
Pump model: RRC
(3) Nozzle count
Suck back valve
Spin motor: Yasgawa
2-2 Unit:
Coater type: Coater
Pump model: RRC
(3) Nozzle count
Suck back valve
Spin motor: Yasgawa
Develop unit:
2-3 Unit:
(2) Dev nozzle count
Up/Down move: Cylinder
Spin motor: Parasonic
2-4 Unit:
(2) Dev nozzle count
Up/Down move: Cylinder
Spin motor: Parasonic
(10) Low temp hot plates (LHP)
(5) Chill plate (CPL)
Chilling hot plate (CHP)
Cup wash holder (CWH)
(1) Transition (TRS)
(1) Transition chill plate (TCP)
Sub module:
THC Maker & model: KOMATS SPA-1821
TCU Maker & model: SMC TEL Standard
AC Power box capacity: AC 208 3θ 125A
Missing parts:
Main controller
2-3,2-4 Dev solution nozzle assy
2-3,2-4 Dev drain pipe assy
2-1,2-2 Resist suck back valve
2-3 Dev spin driver
Dev & cot cup assy
Chemical cabinet parts
IFB Block
2-15 CPL
2-16 TRS.
TEL/TOKYO ELECTRON ACT 8是專門為生產輕量化集成電路（IC）基板而設計的光阻設備。該系統利用光刻層來創建後續光刻步驟所需的蒙版。該層允許根據特定波長量身定制光敏度，這意味著可以更精確地產生IC。TEL ACT 8的主要部件是曝光模塊，其中包含光掩模、旋轉卡盤和舞臺以及紫外線激光器。紫外線激光器被用來在光致抗蝕劑層上產生不同強度的圖樣。這種模式是由旋轉的卡盤和舞臺創建的，用來在紫外線激光下移動光掩模。然後將圖樣暴露在集成電路基板上，然後由機器的其他組件進一步加工。為了保證IC生產的精確度和準確性，TOKYO ELECTRON ACT 8還有一個高度敏感的Imaging單元。這臺機器在曝光後對光刻膠層進行詳細掃描，以確保檢測到圖樣中的任何變化，並能夠被註意。此外，該工具還包含一個高級計量控制單元，該單元能夠測量到0.1微米，以確保準確性。該資產還能夠接觸曝光，其中光刻膠層充當負掩模，以便將圖像直接傳遞到集成電路基板上。當需要高度精確的掩碼或需要以高產量生成小特征時使用此方法。TOKYO ELECTRON ACT 8是一種高度先進的光刻膠模型，旨在制造後續光刻步驟所需的蒙版。該設備包含一個曝光模塊、成像系統和計量控制單元，所有這些單元共同努力確保生產輕型集成電路所需的精度和準確性。該裝置能夠接觸曝光，並能夠產生尺寸高達0.1微米的圖像。
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