二手 TEL / TOKYO ELECTRON ACT 8 #9216895 待售

TEL/TOKYO ELECTRON ACT 8是一種光刻設備，用於光刻IC和其他微電子制造過程，特別是半導體制造線。該系統能夠精確、詳細地控制光刻膠的曝光，這種光刻膠的作用就像一種光敏塗層，可以有選擇地曝光，並用於在納米級上對IC和其他微電子器件進行陣列設計。TEL ACT 8使用了一個兩步控制單元，通過該單元，第一步涉及在最後暴露發生之前進行預暴露。曝光前設置是一個重要的特點，因為它允許精確控制曝光能量，這是決定光刻膠上形成的圖樣最終特征的關鍵參數之一。通過精確控制預曝光的能量，可以在光刻膠中圖樣化的特征中實現更精細的定義。此外，預暴露設置還允許可治愈的洪水，以消除汙染物，並允許更精確的模式。機器還包括曝光後烘烤（PEB）功能，通過硬化光刻膠並適當固化，進一步優化曝光過程。在這一步驟中，光刻膠在有助於固化結構的溫度下加熱，從而允許更精確和精確的微電子模式。TOKYO ELECTRON ACT 8還設有高級控制工具和軟件，用於監督曝光過程。它利用高級算法和反饋回路來確定每次曝光的最佳參數，並允許用戶微調設置，以確保光刻膠以正確的能量正確曝光。此外,該工具還提供多種診斷和警報功能,以指示暴露過程中可能出現的任何潛在問題。總體而言，TEL/TOKYO ELECTRON ACT 8是一種先進的光電抗蝕劑資產，它對光刻IC和其他微電子器件的光刻過程中使用的光電抗蝕劑的暴露提供高精度和詳細的控制。它的兩步模型和先進的算法和反饋回路確保曝光過程準確，達到最高標準，以便在納米級產生所需的模式。