二手 TEL / TOKYO ELECTRON ACT 8 #9236700 待售

TEL/TOKYO ELECTRON ACT 8是一種用於制造半導體器件的光阻設備。光致抗蝕劑系統使用紫外線或X射線在半導體基板上產生圖像。TEL ACT 8系統采用高能紫外線光源，設計用於使用DUV抵抗材料的光刻。它具有64位體系結構和9英寸彩色液晶觸摸屏以及內置的Web瀏覽器。該單元的焦距為25和105毫米，工作距離為200毫米。TOKYO ELECTRON ACT 8機被設計為提供集成電路（IC）和其他電子元件的高分辨率成像。它產生高對比度和極佳線性的高精度圖像。該工具還能夠在一定角度上提供出色的線性度，使成像資產能夠精確地對準光學。該模型還能夠產生高達20納米標記的分辨率。ACT 8設備附帶各種成像模式，以滿足不同的處理要求。這些模式包括蒙版曝光、直接打印、掃描打印和線路曝光。蒙版曝光模式產生高密度圖像，適用於產生高精度的成像元件。直接打印模式用於生成精確的IC圖像,而無需光刻口罩。掃描和打印模式允許在一個連續的通道中掃描和打印IC。行曝光模式用於生成各種矢量元素,如行、尺寸和文本。ACT 8系統是電子和光刻生產的高效、可靠和具有成本效益的替代方法。它提供高精度的成像、出色的線性和穩定性以及高吞吐量。該單元的緊湊設計和可移植性允許在多個應用程序和過程中使用,使其成為原型和小批量生產運行的理想選擇。