二手 TEL / TOKYO ELECTRON ACT 8 #9238389 待售

TEL/TOKYO ELECTRON ACT 8是由TOKYO ELECTRON Ltd的TEL Corporation設計收購的光致抗蝕劑設備。它是一種基於光學的自動化光刻系統，用於生產半導體器件。這一裝置的設計是為了能夠精確和高分辨率地制造用於制造現代半導體的光刻口罩。TEL ACT 8由幾個組件組成，包括一個照明源、透鏡機、標線對準工具和一個暴露的光刻膠資產。該模型使用的光源是一種激光，在各種波長下工作，通常在350-400 nm的範圍內。激光通過透鏡設備定向，高度精確，可提供高達200 mW/cm2的光功率。標線對準系統用於將光刻過程中使用的標線圖樣與晶圓精確對準。曝光的光致抗蝕劑單元包括動態掃描儀，用於將光致抗蝕劑施加到晶片表面上。這是用穩定的光流傳遞到晶圓表面來完成的。可以根據所需的分辨率精確調整傳遞到晶圓的總功率。然後將光致抗蝕劑暴露於激光，並誘導化學反應，導致光致抗蝕劑在暴露於光的區域被硬化或軟化。然後,此蝕刻圖樣用於在後續過程中對晶片進行圖樣化。TOKYO ELECTRON ACT 8被設計為與被稱為阿拉斯加系列的精密對準機配合使用。這種組合提供高達0.03微米的精度，並且能夠產生小至0.07微米的特性。該工具還具有內部模擬器程序，可用於在實際制造過程之前測試晶圓設計。總之，TEL ACT 8是用於制造現代半導體生產設備的自動化、高度精確的光刻資產。它利用激光模型為分辨率和功率提供了一系列設置。此外,其阿拉斯加系列對準設備和內部模擬器程序為用戶提供了以極高的精度和精確度創建復雜設計的靈活性。