二手 TEL / TOKYO ELECTRON ACT 8 #9241917 待售

TEL/TOKYO ELECTRON ACT 8 （TEL/TE TEL ACT 8）是一種先進的光致抗蝕劑設備，用於制造要求很高的集成電路，特別是在半導體和納米技術行業。該系統的光刻技術允許集成電路制造商創建線寬和CD公差非常低的圖樣和特征。TOKYO ELECTRON ACT 8的主要特點是它的高分辨率能力，這取決於它先進的光阻和遮罩對準器。它的光致抗蝕劑單元的工作原理是用光致抗蝕劑反復塗覆晶片，並燒掉不對稱定義的區域。這樣就可以精確地創建溝槽、小氛圍、口袋和小角度。ACT8的另一個核心成分是它的掩碼對齊器。這種設備可以快速準確地對準光刻膠和晶片，允許光掩模圖案精確轉移到光刻膠上。它還可以快速改變遮罩圖案和光刻塗層。ACT 8的機器還融合了先進的成像和計量能力，提供了一種檢查光刻膠特性特征的手段。這包括光學測量、自動采樣和X射線檢查，允許精確觀察晶圓的最小特征。此外,刀具使用零長度的過潮來減少駐波失真.這種能力通過降低駐波噪聲來提高資產的分辨率，從而導致精細結構之間的對比度更高。TEL/TOKYO ELECTRON ACT 8提供了其他幾個特性，如高效液體界面塗層模型、深反應性離子蝕刻（DRIE）和氧化物蝕刻。此外，它的精密過程監控（PPM）設備提供了有關過程狀態的實時數據，允許精確的過程控制和可重復性。最後，TOKYO ELECTRON/TE TOKYO ELECTRON ACT 8被設計為提供接近線圈表面處理晶片的最佳環境。這樣可以確保高質量的流程結果和可重復性。總體而言，TEL/TOKYO ELECTRON/TE TEL ACT 8是一種先進的、高分辨率的光刻膠系統，旨在制造極高要求的集成電路。其先進的成像和計量能力，高效的液體界面塗層單元，PPM機，允許精確和可重復的結果。