二手 TEL / TOKYO ELECTRON ACT 8 #9252167 待售
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已售出
ID: 9252167
晶圓大小: 8"
(2) Coater / (2) Developer system, 8"
I-Line
Single block system
Wafer flow: Left to right
Process block: Single block system
Block 1(C/S Blk):
CS Add on board missing
Main controller: ACT #2
Y,Z,Th Motor, X,Y,Z,Th Drive
Touch screen
Pincette
Block 2(P/S Blk)
(2) Spinner I/O boards missing
(2) Coater units (2-1, 2-2)
Direct drain type
(2) PR Nozzle assemblies
(4) Back rinses
(2) EBR Nozzles
(2) Out cup assemblies
(2) Nozzle changer motors
(2) Spin motors & drivers
(2) Developer units: (2-3, 2-4)
(4) Back rinses
(2) H Nozzle assemblies
(2) Out cup assemblies
(2) Spin motors & drivers
Oven unit:
(7) LHP/ Low temperature hot plates
(4) CPL/ Chill plates
TCP
(2) TRS / Transfer stations
(2) ADH/ Adhesion process stations
PRA / Process block robotics arm:
Missing part: Pincette
TH Drive
PRA Motor
Missing parts:
(4) ADH Inject valves
(10) Air valve (AMDZ1-X61)
(2) Spinner I/O boards missing (Coater units (2-1, 2-2) Developer units: (2-3, 2-4))
(2) DEV Drine bottles
Power cable
THC: T&H-NRE-2-A-00
Power box: PB2-U200-03-DV2
TCU.
TEL/TOKYO ELECTRON ACT 8是一種產生用於生產半導體器件的光掩模的光刻設備。該系統具有創建具有高分辨率和重復性的高精度模式的能力。它產生的光掩模圖樣是通過專有的雙圖樣曝光（DPE）方法創建的。這種方法涉及用掃描鏡投影將單個光刻膠膠片暴露於兩個不同光源的連續曝光中。此單元還利用具有不同級別的圖像復雜度和光掩碼幾何的用戶定義掩碼配置,使用戶能夠自定義光掩碼圖樣。TEL ACT 8生產的光掩模是通過多種工藝制成的。首先，玻璃基板塗有非晶矽樹脂，作為光掩模圖案。接下來，膠片被照射在光線下，從而設置了光致抗蝕劑規則層。光線使暴露的樹脂聚合，不溶於某種化學溶液。這導致創建蝕刻線陣列。最後，這種圖案被轉移到玻璃基板上。這臺光掩模機的分辨率相當令人印象深刻，最小線/空間為0.08微米，在800萬像素的陣列上一致的音高高達0.2微米，使得TOKYO ELECTRON ACT 8成為最嚴格的半導體器件制造應用的理想選擇。其可重復性小於0.001微米，保證了優良的產品質量和產量。另外，TOKYO ELECTRON ACT 8的設計使曝光時間快速，一般從數小時到一天不等。TEL ACT 8工具還具有一套復雜的錯誤檢查和自動糾正軟件工具。這些工具允許在審查蝕刻薄膜之前手動校正超出公差的條件,從而確保精確生成復雜的圖樣。因此，TEL/TOKYO ELECTRON ACT 8是一種可靠的光致抗蝕劑資產，可以產生高度先進的光掩模圖樣，具有非凡的重復性和精確度。
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