二手 TEL / TOKYO ELECTRON ACT 8 #9272113 待售

TEL/TOKYO ELECTRON ACT 8是一種用於制造集成電路和其他半導體器件過程中的光阻設備。它是一種以光刻形式使用的先進系統，涉及將預先圖案化的抗蝕劑或感光材料暴露在紫外線下，然後發展成所需的圖案。TEL ACT 8單元能夠以卓越的精度和優異的表面一致性在基板上產生圖樣。TOKYO ELECTRON ACT 8機的核心是其先進的光掩模對齊器，它將光掩模與基板精確對齊。光掩模包含一個與基板上所需圖樣相對應的曝光位點圖樣。曝光點可以是任何大小和形狀,如正方形、圓形或六邊形。光掩模對準器采用高精度傳感器，確保完美對準。這樣可以確保曝光點的準確性，從而使基板上產生的圖案精確。ACT 8的光阻特性是工具的關鍵組成部分，因為它有助於在基板上創建圖樣。光敏材料由兩層組成，底層由感光材料制成，頂層由保護膜組成，有助於保護感光材料免受曝光光的照射。如果控制得當，頂層只允許足夠的曝光，使感光材料反應並在基板上形成圖樣。資產還包括開發者特征，這有助於在基板上創建模式。曝光光施加到基板上後，開發者接手並幫助形成所需的圖樣。開發人員是一種先進的化學模型，包括各種蝕刻劑和溶劑。這些有助於將感光材料溶解在局部區域，在基板上形成圖案。TOKYO ELECTRON ACT 8設備還包括微調照明系統，旨在確保基板的均勻曝光。這有助於確保在基板的所有部件上創建所需的陣列,而不會出現不一致之處。照明系統也可用於改變曝光水平以適應基板表面，確保精確和精確的圖案。總體而言，ACT 8是一種先進的光阻系統，能夠創建精確的圖樣，具有卓越的精度和出色的表面一致性。其先進的光掩模對準和照明系統有助於確保基板的均勻曝光，而其開發者則有助於創建所需的圖樣。這些特性有助於使其成為創建復雜集成電路和其他半導體器件的理想單元。