二手 TEL / TOKYO ELECTRON ACT 8 #9282700 待售

TEL/TOKYO ELECTRON ACT 8是為了嚴格控制半導體材料的開發過程而設計的耐光設備。它是一種能夠制造高密度、高精度、高屈服的集成電路和其他復雜材料的光刻系統。TEL ACT 8光抗蝕劑單元的曝光階段配備了一個冷陰極燈（CCL），能夠一次容納一個晶片。該燈發出的能量在晶圓傳感機中進行測量，以確保晶圓的精確曝光。CCL和Wafer Sensing Tool的組合保證了圖樣的所有特征在基板上的精確對齊，從而保證了精確曝光。光對準資產還配備了自動對焦模型，允許與晶圓投影中使用的標線快速準確對準。TOKYO ELECTRON ACT 8也在開發過程中對晶片提供精確的溫度控制。這樣可以確保批次和晶片結果的一致性,從而確保更高的產量。利用多個溫度控制區將開發人員關押在一個嚴格控制的環境中，從而進一步確保化學品的保質期和較高質量的發達抗蝕劑。TEL/TOKYO ELECTRON ACT 8設有凹版開發站D-Station，與上述開發者協同工作，對已開發的半導體晶圓進行精確著色。D-Station包含幾個元素，如載波、顯影劑和圓柱體。這使得模式能夠精確發展成目前沈積在半導體上的抗蝕劑。最後，ACT 8還配備了噴霧膠囊，用於開發過程的曝光後烘烤階段。這使得通過控制曝光後烘烤過程更容易延長工藝窗口。總體而言，ACT 8是一種先進的光阻設備，設計用於精確曝光和發展集成電路和其他復雜材料的制造。其高精度的曝光系統、溫控顯影劑罐、凹版開發站、噴霧膠囊都協同工作，確保了開發過程中的高產率和高精度。