二手 TEL / TOKYO ELECTRON ACT 8 #9283381 待售
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單擊可縮放
ID: 9283381
晶圓大小: 8"
優質的: 2003
(1) Coater / (2) Developer system, 8"
Machine type: L-Type
Single block
Main controller: M/C Normal installation
Coat Process Station (COT):
(2) Nozzles
RRC Pump
Solvent automatic supply: (2) Tank auto supplies / TEL Standard
Side rinse (EBR)
(2) Back Side Rinses (BSR)
Develop process station (DEV):
Nozzle
H Type
Dev Solution automatic supply: (2) Tank auto supplies / TEL Standard
Rinse nozzle
(2) Back Side Rinses
Adhesion process station
(6) Low temperature hot plate stations (LHP)
(2) High temperature hot plate process stations (HHP)
(4) Chilling plate process stations (CPL)
(2) Transition stage units (TRS)
AC Power box
Chemical box
Temperature controller
KOMATSU (SPA-1882-A) T&H
2003 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON ACT 8是一種光致抗蝕劑設備，用於制造高性能半導體。該系統采用數據驅動的光刻工藝，是直接書寫光刻的一種形式。在光刻中，光被用來將有圖樣的細胞轉移到基板上，通常是矽片。這種光通常是紫外線,或紫外線.這種光刻方法允許圖樣被精確復制和縮放以適合基板。這成為創建半導體器件的晶體管、電容器和其他組件的起點。隨著TEL ACT 8，先進的光刻機采用功能強大的3步工藝。首先，機器使用二進制光學遮罩在空白矽基板上施加特定的圖樣。接下來，這種圖案暴露在紫外線下，讓面罩隨後被移除。成品是蒙版上圖案的精確復制。該設備還配備了先進的晶片級和晶片掃描機。這兩個元件協同工作，確保整個光刻過程的精度。晶圓掃描工具能夠移動各級以進行定位和對準，以促進盡可能最精確的陣列。該掃描資產還有助於減少每個晶片的處理時間。過程的第三步是將晶片塗在光敏材料中。這種材料對紫外線敏感，所以當它暴露時，只有晶圓的某些區域會保持暴露。此過程可用於創建比以前的二進制光學掩碼更詳細的陣列,例如細線和小特征。TOKYO ELECTRON ACT 8為用戶提供了一種快速、準確、精確地創建復雜半導體設計的手段。此模型非常適合各種行業和應用,包括汽車、電信和消費電子產品。其精確度和效率允許生產高度可靠和復雜的半導體零件。
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