二手 TEL / TOKYO ELECTRON ACT 8 #9285381 待售

TEL/TOKYO ELECTRON ACT 8是一種用於半導體器件制造的光敏設備。該系統設計用於基板膜的沈積和幹蝕刻，用於集成電路的制造。TEL ACT 8單元利用先進的無掩模光刻機，采用孔徑激光掩模，使圖樣能夠高分辨率成像到光敏基板上。光圈激光掩模位於基板上方固定距離處，用於掃描和曝光功能。該工具與抗蝕劑噴嘴集成在一起，該噴嘴提供所需的基板濺射塗層，並允許均勻應用抗蝕劑材料。該資產具有很高的成像分辨率。該模型采用高頻調制激光發動機，在基板上產生高分辨率、高精度、高均勻度的圖像。此功能可確保增強陣列的保真度,從而顯著提高工藝產量。此外，TOKYO ELECTRON ACT 8光抗蝕劑設備具有光學活動性層技術，允許薄膜和絕緣體層之間的互連，用於制造多級互連。這一層技術還提供了更好的接觸屈服和附著力。該系統還具有集成自動化，有助於減少制造集成電路所需的時間和資源。此自動化旨在降低最終產品的成本。TOKYO ELECTRON ACT 8光抗蝕劑單元適用於高溫烘烤和蝕刻應用，以及其他困難的工藝條件。它還能夠容納最新的晶圓技術，如Cu-AlN薄膜，並能夠制造復雜的設備。總體而言，ACT8光刻機是一種先進的高性能工具，非常適合半導體器件的制造和生產。該資產具有內置自動化和改進的成像分辨率,有助於降低集成電路的生產成本。它還能夠處理困難的工藝條件，能夠適應最新的晶圓技術，使得TEL/TOKYO ELECTRON ACT 8光刻膠模型成為制造復雜器件的理想解決方案。