二手 TEL / TOKYO ELECTRON ACT 8 #9288585 待售
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ID: 9288585
晶圓大小: 8"
優質的: 2000
(3) Coater / (4) Developer system, 8"
Dual block
(4) Open cassettes: CSB
Transfer arm
Controller
Touch panel
(2) Block bodies (SPIN: 3COT / 4 DEV)
RRC Pump: CSB
(3) COT Spin with 3 nozzles (2-1, 2-2: COT / 2-3 TCT)
Nozzle for DEV spin
Interface block:
WEE Unit
IFB Arm
Lamp house
Bake (1B, 2B):
(2) ADH
(8) CPL
(4) PCH
(13) LHP
(3) TRS
(4) HHP
Sub modules:
AC Power
(2) TCUs (SMC)
(2) Chemical cabinets
Cup temp / Humid (COSAM)
2000 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON ACT 8是為精密光刻而設計的光刻設備。它是一個可自定義的系統,使用戶能夠對其生產過程進行最佳的可見性和控制。該裝置具有自己專有的光刻膠溶液，這是光刻工藝的重要組成部分。此解決方案可幫助用戶在目標材料上均勻地應用光刻膠,以創建統一且準確的結果。機器的核心是一個專有的激光掃描儀，它提供了最大的精度和速度。它有一個可調的階段，與任何基材尺寸完美對齊的能力。激光束聚焦在極窄的寬度上，這樣可以將細小的圖樣精確地寫入目標材料上。該工具還具有獲得專利的自動尺寸調整功能,可確保曝光與目標形狀精確匹配。該資產通過內置的多重曝光模型得到進一步增強。這允許用戶在不同的曝光設置下多次曝光相同的模式。此設備不需要手動調整模式,確保每次結果一致。該系統還包括一個專利介電材料鎖存器，旨在將光刻膠固定在基板上。此特性可確保光刻膠在曝光過程中牢固地附著在基板上。此外，該裝置還具有可編程數字傾斜機，可確保光刻膠均勻分布在基板上。該工具還配備了一整套溫度和濕度傳感器。這使用戶能夠輕松地監控和調整溫度和濕度,以獲得精確的條件,從而獲得所需的分辨率和模式的清晰度。最後，資產還包括其自身的自成一體的抗拒發展模式。這種設備在曝光後從基板上除去光致抗蝕劑，導致圖樣的形成。該系統配有傳感器，確保對基板施加精確的壓力，以達到最優的抗蝕劑去除效果。總體而言，TEL ACT 8是一種先進的光刻裝置，設計用於精密光刻。它結合了專有的光致抗蝕劑溶液、激光掃描儀、多曝光機和抗蝕劑開發工具,使其能夠在盡可能短的時間內提供最高質量的結果。
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