二手 TEL / TOKYO ELECTRON ACT 8 #9289040 待售
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ID: 9289040
(4) Coater / (2) Developer system
Dual block
Right to left wafer flow
Block 1:
Type 3 controller
(16) RDS Resist pumps
Block 2:
2-1, 2-2 Standard COT:
(4) Resist nozzles
With (4) RDS resist pumps
2-3, 2-4 TCT Unit (Top ARC):
(4) Resist nozzles
With (4) RDS resist pumps
(2) Adhesion Process Stations (ADH )
(4) Chiller Plate Places (CPL)
(7) Low Temperature Hot Plate stations (LHP)
(4) High Temperature Hot Plate Process Stations (HHP)
(2) Cup Washer Holders (CWH)
Transition Stage (TRS)
Transition Chill Plate (TCP)
Block 3:
Unit / Nozzle qty / Nozzle type
3-1 DEV Unit / (1) / SH Nozzle
3-2 DEV Unit / (1) / SH Nozzle
3-3 DEV Unit / (1) / SH Nozzle
3-4 DEV Unit / (1) / SH Nozzle
(6) High Precision Hot Plates (PHP)
(8) Low Temperature Hot Plate stations (LHP)
(4) Chiller Plate Places (CPL)
Block 4:
ASML PAS 5500 DUV Stepper / Scanner
Wafer Edge Exposure (WEE)
(2) External chemical supply cabinets
(2) Thermo controller units
AC Power unit.
TEL/TOKYO ELECTRON ACT 8是一款光阻設備，旨在為光電子、數據存儲、通信等應用中的高分辨率特性提供精確、精確的處理。它將光刻技術與有源激光控制系統相結合，提供卓越的性能和吞吐量。該單元旨在實現高精度和低成本的光學過程,如精確的步進重復、對準、圖像縮放和其他應用。該機器包括一個材料處理子系統、一個控制器、光學器件和一個激光源。物料處理子系統將樣品從輸入移動到輸出托盤，控制器用於調節激光源並操縱光學器件。光學子系統包括一個場透鏡、一個偏轉鏡、一個聚焦透鏡、一階衍射光柵和可用於調節曝光劑量的中性密度濾光片。激光源通常包括一個氟化的準分子激光器、一個紫外二極管激光器或一個藍色二極管激光器。TEL ACT 8的吞吐量高達每小時3000個晶圓，最小場大小為5微米。它具有高速對準精度,可重復性為± 5微米,圖像縮放能力為10到500 ×。它的混合對齊工具還允許用戶同時執行手動和自動對齊。該資產旨在處理廣泛的基板，包括厚薄膜基板，以及玻璃和石英。該型號還設計方便直觀的操作。它支持一個圖形用戶界面（GUI）,用於使用逐步指令進行過程控制。GUI還提供有關對齊增益、流程狀態和設備設置的信息。該系統還包括一個傳感器反饋單元，用於監控樣品定位，以確保最佳性能。該機設計堅固可靠，具有自我診斷、自我校正等自動功能。它還包括錯誤記錄和報告等功能。該工具經過工廠校準，漂移低，可重復性好。它能夠在各種溫度和濕度水平下運行。緊湊的設計不需要額外的氣流和空間，可以與各種材料處理系統集成。
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