二手 TEL / TOKYO ELECTRON ACT 8 #9290881 待售

TEL/TOKYO ELECTRON ACT 8是為了生產高精密的微電子元件而設計的光刻膠設備。該系統是一種沈積工具，旨在方便在半導體器件上創建光刻膠薄膜，從而能夠以前所未有的精確度和細節開發電路和其他組件。這是通過使用稱為「光刻」的工藝來實現的，在該工藝中，由光和陰影組成的掩模被投射到光刻塗層的基板上。暴露在面膜下會使光致抗蝕劑的暴露區域變得「發達」，從而產生所需的微電子結構。TEL ACT 8單元利用了一臺以光學為基礎的漸逝式ArF KrF光刻投影機，允許以極高的精度成像高分辨率圖案。它具有60 nm的分辨率,指示可精確生成的特征的最小大小。該刀具還具有出色的離軸傾斜度,允許制造各種幾何形狀。該資產可支持直徑不超過150 mm和厚度不超過6mm的基板,從而提供了處理各種基板尺寸和類型的靈活性。該模型還具有先進的工藝控制能力，便於處理光刻膠輪廓，以達到最佳的膠片質量。該設備提供有關掩模和基板特性的實時反饋,並能夠快速調整光束的強度和波長,以減少工藝變化並優化吞吐量。此外，該系統還能夠自動優化工藝，從而擴展了其應用領域，提高了工藝產量。ADV還提供可選的快速冷卻系統,並支持高級流程控制。它是完全可伸縮的，允許整合幾個投影模塊，並允許同時生產多個設備。最後，該單元還設計得極其堅固耐用，長期提供可靠的性能，這對許多類型的工業生產至關重要。總之，TOKYO ELECTRON ACT 8是一種尖端的光致抗蝕機，專為精密精密的微電子元件生產而設計。它采用ArF KrF平版印刷工具,可實現最先進的分辨率,先進的工藝控制,能夠加工各種基板,並具有高度可靠的設計,以實現最大的耐用性和性能。憑借其廣闊的能力，資產是各種工業應用的理想選擇。