二手 TEL / TOKYO ELECTRON ACT 8 #9300128 待售

TEL/TOKYO ELECTRON ACT 8是由TEL Limited（TOKYO ELECTRON）開發的下一代光致抗蝕劑設備。光致抗蝕劑是一種用於生產電子元件和光敏聚合物的化學品，可用於在基板上制造圖樣。光致抗蝕劑系統被用於從光刻到蝕刻的各種制造過程中。TEL ACT 8具有多種特性，使其與其他光刻膠系統脫穎而出。它是一個高性能的抵抗系統，能夠使用來自熒光數字成像顯微鏡（FDIM）的圖像和視頻數據和8英寸晶圓。這意味著它可以精確地形成具有高重復性和均勻性的模式。它有一個最先進的清潔裝置，可以有效地去除金屬離子和有機汙染物。這樣可以減少沖洗不良造成的清潔缺陷和碎屑。增強的掩模沈積特性使得控制線寬和薄膜厚度更加容易。這有助於確保從光掩模到基板的圖樣傳輸過程準確。該機與其他光刻膠相比也有改進的處理特性，允許更快的處理速度。此外，延長了最大工藝時間，降低了顆粒汙染和基材損壞的風險。TOKYO ELECTRON ACT 8的先進控制能力有助於確保更精確的模式錯位和線寬。它還能夠按順序納入幹蝕刻和化學過程，簡化生產過程，使其更易於監測和優化。總體而言,TEL ACT 8是一種先進的光阻工具,可提供更快的處理速度、改進的清潔能力、增強的掩模沈積特性和延長的工藝時間等優點。這有助於提高減少缺陷和改善基材加工的準確性、均勻性和可重復性。它是一項先進的資產，為電子元器件的生產制造提供了巨大的優勢。