二手 TEL / TOKYO ELECTRON ACT 8 #9312222 待售

ID: 9312222
晶圓大小: 8"
優質的: 2001
Coater / Developer system, 8" Main frame with system controller Carrier station: Type: Normal uni-cassette 4-Cassette stages Pick-up cassette Coater unit: (3) Dispense nozzles With temperature controlled line RRC Pump Rinse nozzle: Back / EBR / Solvent bath Rinse system: 3 Liters (2) Buffer tank systems P.R Such-back valve type: Suck-back valve Direct drain TARC Coater unit: (2) Dispense nozzles With temperature controlled line RRC Pump Rinse nozzle: Back / EBR / Solvent bath Rinse system: 3 Liters (2) buffer tank systems P.R Such-back valve type: Suck-back valve Direct drain Developer unit: SH Nozzle (2) SH Nozzles for DI Rinse 2-Points for back side rinse Developer system: 3 Liters (2) buffer tank systems Developer temperature control system Direct drain (3) Adhesion units: Sealing closed chamber (Built-in hot plate) HMDS Tank with float sensor system Interface (15) Low temp hot plates (14) Chill plates (CPL) (3) TRS Module TCP Module Wafer Edge Exposure (WEE) Module Wafer type: Notch, DUV Type (2) Chemical cabinets: Chemical cabinet 1: Solvent and developer Chemical cabinet 2: HMDS and PR (2) Temperature Control Units (TCU) AC Power box Missing parts: 2-1 COT Spin I/O Board 2-4 COT EBR Nozzle tip 2-4 COT EBR Nozzle valve 2-1 Nozzle changer motor 3-2 Shutter cylinder (2) PRB YASUKAWA Spin motor drivers 2-0 PRA Z-Driver 3-0 PRA Z-Driver Temperature and humidity controller (For 4 chu) Hard Disk Drive (HDD) 2001 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON ACT 8是由TEL與佳能電子合作開發的光阻設備。它是將單束或雙束深紫外線(DUV)激光光刻系統的高性能能力與先進的抵抗技術相結合的下一代技術。這個單元的核心部分是深紫外激光、抵抗處理器和精細對準階段。深紫外激光發射波長為248nm的光束,非常適合在印刷晶片上創造極小的特征。它還可以同時處理多達八層,從而顯著提高生產率。集成的抗蝕劑處理器和精細對齊階段提供了對整個光刻過程的精確控制。此外,還設計了TEL ACT 8,以盡量減少生產周期時間。TOKYO ELECTRON ACT 8還融入了幾個高級功能。它能夠在單個通道中實現小至12nm的分辨率,從而可以創建高度復雜的電路模式。機器還包括動態聚焦功能,允許糾正曝光過程中的任何錯誤對齊。此外,TEL/TOKYO ELECTRON ACT 8具有精密的配方管理工具、直觀的用戶界面以及精確的均勻性控制。ACT 8是高度可靠和能夠維持所需的分辨率多達100晶圓.TOKYO ELECTRON進行了密集的可靠性測試,以確保即使在最極端的條件下也有優越的性能。該資產符合國際頂級半導體公司的要求,並被全球多家公司采用。光刻膠模型可用於從電子到汽車零部件和醫療設備的廣泛行業。TEL ACT 8提供了無與倫比的精度,非常適合要求非常精細的任務,例如在微型LED和微型電阻中。設備也快速、高效、可靠,非常適合大批量生產運行。無論要求如何,ACT 8都能以最小的停機時間提供最高質量的結果。精度、效率和可靠性的結合使其成為要求最高性能級別的任何應用程序的理想選擇。
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