二手 TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12 #293592464 待售

TEL （TE） TEL/TOKYO ELECTRON CLEAN Track ACT 12是一種'光刻膠'設備，用於微電子工業的設備制造。光致抗蝕劑是對特定光能敏感的化學制劑。當暴露在光線下，光致抗蝕劑內的分子發生反應，導致其分子狀態發生變化。通常情況下，光刻膠沈積在晶片上以創建特定的圖樣，這些圖樣可用於構建大規模的集成電路。TEL Clean Track ACT 12系統提供了比傳統光刻膠系統更多的優勢,包括更高的清潔能力、更高的生產率和更清潔的結果。它在過程結束時清除暴露後沈積物的能力特別有益。它還具有快速和成本效益，能夠在不到傳統系統所需時間的十分之一的時間內取得優異成果。TOKYO ELECTRON CLEan Track ACT 12裝有一個Spin/Spray Unit，用於在真空下將光刻膠套用到半導體晶圓上。光刻膠放置在旋轉/噴霧杯中，這是一個裝有光刻膠的空心塑料杯。然後將杯子放在旋轉的主軸上，以適當的速度紡絲，以均勻分布晶片上的光刻膠。該過程還確保光刻膠均勻分布在晶片的整個表面上，以獲得一致的圖樣化結果。光致抗蝕劑一旦施加到晶片上，就會在Clean Track ACT 12中以所需的時間長度暴露在光源下。機器有一個高強度的水銀蒸氣燈，將光線準直，以獲得最佳的曝光均勻性。然後在顯影劑溶液的工具攪拌浴中開發光致抗蝕劑。這會移除未曝光的光刻膠部分，留下晶圓上的圖案。最後，資產配備了先進的清潔模塊，由一系列噴頭組成，這些噴頭分散了幾種不同的溶劑，以準確地清潔晶圓中的殘留物。這種自動化清潔技術提供了卓越的清潔效果，並顯著減少了晶圓上實現清潔膠帶亮度所需的時間和人力。綜上所述，TE TEL/TOKYO ELECTRON CLEAN Track ACT 12光刻膠模型是設備制造的理想解決方案。它提供了卓越的清潔性能、更高的生產率,以及為設備制造的下一步準備就緒的清潔晶片。其快速、經濟高效的操作，加上自動化的特點，使其成為半導體制造商的一個有吸引力的選擇。