二手 TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12 #9199427 待售
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已售出
ID: 9199427
晶圓大小: 8"
(2) Coater / (4) Developer systems, 8"
DUV Dual process block track
General:
iUSC SECSI
SECSII
HSMS
GEM
(4) Blocks interfaced:
(2) Cassettes
Process block
Scanner interface
(4) Wafer transfer robot arms:
(2) Cassettes
Process block
Scanner interface
Control module on cassette end station (CES)
Interface block:
Single pincette
Wafer transfer with centering guides
Standard wafer arm
Interface panel to accommodate stepper/scanner
CPL For insuring consistent wafer temps
(2) Coaters:
(4) Resist nozzles with temperature control
(16) Layer resists and solvent filters
RRC Pumps
4L / 1L Nowpak capability
SS 0.3 mm Diameter side rinse nozzle with flow meter
(2) SS 0.3 mm Diameter back rinse nozzles
(4) Developers:
(2) H Nozzles with temperature control
(16) Layer filters
Bulk FSI
(2) Adhesion process stations (ADH)
Half sealed chamber
With dispersion plate for HMDS
(6) Chill plates process stations (CPL)
Temperature control
Transfer chill plate (TCP)
(8) Low temperature hot plates process stations (LHP)
(4) Chilling hot plate process stations (CHP)
Wafer edge exposure process station (WEE)
DUV Illumination monitor
Lamp housing
Ultra pressure mercury lamp 250 W
With 5 x 4 mm illumination pattern
Sub components:
Fluid temperature controller
(2) Temperature humidity controllers
Chemical cabinet
AC Power box.
TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12是用於半導體製造的光刻設備。它是一種高度先進的、完全集成的抗蝕性塗層系統，既適用於清潔環境，也適用於傳統的制造環境。該設備提供符合行業最高處理質量標準的集成、自動化和精確的防腐塗層。該機能夠支撐單層或雙層塗層幾何形狀，利用鐵電、抗反射性或抗性塗層來改變塗層厚度並增強附著力。此過程能夠對多位置陣列進行分層抗蝕劑處理。該工具提供了最大的靈活性和校準和配方控制,以加快工藝優化速度。它還提供了預校準選項以及快速均勻功能,以提高塗層精度。TEL Clean Track ACT 12的設計具有緊湊的占地面積和輕巧的框架,使機器能夠安裝到中等大小的清潔室或工作區中。該資產配備了自動控制模型和數字信號處理器（DSP），用於控制基於自動或手動調整的微調器。它還包括一個自旋速度控制模塊，為更精確的塗層提供極好的自旋速度可重復性。該設備與高性能、用戶友好的掃描和對準系統集成在一起，以提高微制造精度。設備的位置反饋能夠快速對準,並有助於防止光刻膠操作過程中的錯位。該機還包括一個慣性導航工具和電子傳感器模塊，以改進導航和穩定性。該資產能夠在反向旋轉塗層模式或真空塗層模式下運行。它由高速交流電動機提供動力，設計目的是將功耗降至最低。該車型配備了功能豐富的塗層設備，便於操作和維護。它也有從200毫米到500毫米的廣泛選擇基板。它還可以塗覆各種基材和材料，如矽、氧化矽、玻璃、金屬。它配備了先進的監控系統，幫助實時監控流程變量。該單元還提供高級掩蔽和曝光工具，以確保無錯誤的平版印刷過程。機器的集成設計包括自動自我診斷，以確保有效的性能。TOKYO ELECTRON CLEAN TRACK ACT 12是一款最先進的光電抗蝕劑工具，旨在滿足最苛刻的行業標準。它是一個工具，提供準確的，可重復的結果與各種各樣的基材。通過先進的監控資產和高速集成設計，加速度計確保了導航和穩定性的提高。該模型的自動化特性和輕巧的設計使其非常適合清潔空間和常規制造環境。
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