二手 TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12 #9216089 待售
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單擊可縮放
ID: 9216089
晶圓大小: 12"
優質的: 2008
Coater / (2) Developer system, 12"
With system controller
Left to right
I/F Wafer stage type: NIKON Type (SFl3)
Carrier station:
Foup cassette
Uni-cassette
(3) Cassettes
Coater unit:
(6) Dispense nozzles with temperature controlled lines
MILLIPORE RDS Pump
Rinse nozzle: Back / EBR / Solvent bath
Rinse system: 3 Liters (2) buffer tanks
Degassing system
Programmable side rinse:
PR Nozzles (1-6): (36) Bottles
Thinner supply (Bottle / Nozzle): CCSS
AMC Suck-back valve
Direct drain
Developer unit:
H-Nozzle
Stream nozzle for DI rinse
Developer system:
(2) 3 Liters buffer tanks
Developer supply: CCSS
Degassing system
Developer temperature control system
Direct drain
Adhesion unit:
Sealing closed chamber
HMDS Tank with float sensor
HMDS Supply: Local bottle
(5) Low temperature hot plates (LHP)
(4) Chill plates (CPL)
(4) Precision chilling hot plates (CHP)
TCP Unit
(2) TRS Units
WEE Unit (Wafer edge exposure)
UV Sensor: I-line
Chemical cabinet:
Solvent
HMDS
DEV Chemical cabinet
SHINWA ESA-8 Series Temperature / Humidity controller
Temperature Control Unit (TCU)
AC Power box
2008 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON CLEan Track ACT 12是一種光致抗蝕劑設備，用於半導體制造。它由一個光致抗蝕劑處理系統和一個步進軌跡組合成一個集成單元，提供低顆粒環境。光敏裝置是半導體器件制造的第一步，用於在基板上制作小圖案。光致抗蝕劑暴露於光，無論是從一個光掩模或電子束，取決於圖案正在創建。然後開發出暴露的光致抗蝕劑，並將產生的圖樣轉移到基材上。TEL Clean Track ACT 12旨在盡可能高效、清潔、低顆粒。這是通過其先進的步進軌跡機實現的，該機與光刻加工工具配合工作。步進軌道資產的設計目的是減少曝光過程中光掩模產生的粒子數量。它通過在處理過程中捕獲粒子並將它們隔離在軌道和光掩模之間來做到這一點。然後將顆粒安全地清除和處置。TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12還具有先進的溫度跟蹤模型，可以通過將電子束溫度與過程時間和劑量相關聯來直接加強溫度控制。這減少了加工過程中溫度變化造成缺陷的幾率。CleanTrackACT 12是半導體制造領域迅速發展的一個寶貴工具。它結合了先進的光致抗蝕劑加工、步進跟蹤設備和溫度跟蹤能力，在低顆粒環境中提供了精確的結果。由於其效率和有效性,它在設備制造商中越來越受歡迎。
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