二手 TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12 #9216090 待售
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ID: 9216090
晶圓大小: 12"
優質的: 2004
Coater / (2) Developer system, 12"
Left to right
Main frame with controller
Carrier station type:
Foup cassette
Uni-cassette
(3) Cassettes
Coater unit:
(6) Dispense nozzles with temperature controlled lines
MILLIPORE RDS Pump
Rinse nozzle: Back / EBR / Solvent bath
Rinse system:
3 Liters (2) buffer tanks
Degassing system
Programmable side rinse:
PR Nozzles (1-6): (36) Bottles
(Bottle / Nozzle) Thinner supply: CCSS
AMC Suck-back valve
Direct drain
Developer unit:
H-Nozzle
DI Rinse: Stream nozzle
Developer system:
3 Liters (2) buffer tanks
Developer supply: CCSS
Degassing system
Developer temperature control system
Direct drain
I/F Wafer stage type: NIKON Type (SFl3)
Adhesion unit
Sealing closed chamber
HMDS Tank with float sensor
HMDS Supply: Local bottle
(5) Low temperature Hot Plates (LHP)
(4) Chill plates (CPL)
(4) Precision Chilling Hot Plates (CHP)
TCP Unit
(2) TRS Units
Wafer Edge Exposure Unit (WEE)
I-Line UV sensor
Chemical cabinet:
Solvent
HMDS
Developer chemical cabinet
SHINWA ESA-8 Series Temperature / Humidity controller
Temperature Control Unit (TCU)
AC Power box
2004 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON CLEan Track ACT 12是一款設計用於半導體微加工的先進光刻加工設備。該系統利用液體補充、浸入和非接觸式掃描技術，為先進的半導體工藝提供精確的抗蝕性和無粒子效果。該單元包括一個掃描儀組件、多個分發器、循環洗衣機和一個生產率軟件包。該掃描儀組件通過高分辨率的非接觸式掃描提供了精確的抵抗劑量和均勻性控制。分配器提供機器所需的清潔解決方案和抵抗.循環墊圈允許連續液體補充，去除顆粒和其他物質，這些物質可能會汙染工具，從而產生抵抗殘留物。最後，生產率軟件為模型優化提供了實時資產性能反饋和性能驗證。設備設計時考慮到維護環境低；靠近分配器、再循環洗衣機和掃描儀，可實現最小的維修和最佳的性能。該系統還能夠以20微米分辨率進行高達456毫米的大面積處理，這對於先進的半導體工藝步驟至關重要。此外,由於過度使用解決方案後的快速恢復過程,設備的停機時間最小化,從而為每個批次提供一致的結果。ACT 12光致抗蝕器是為了跟上先進的半導體加工而設計的.利用其非接觸式掃描能力、液體補給和LED補給技術，該工具能夠提供高精度抗蝕劑劑量的無粒子結果。該資產旨在為下一代微加工工藝提供最佳的基材/抗蝕劑性能。
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