二手 TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12 #9227624 待售
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已售出
ID: 9227624
晶圓大小: 12"
優質的: 2003
(1) Coater / (2) Developer system, 12"
Left to right
(3) Main controllers
In-line
CSB
IFB
PRB 1
Power box
Chemical box 1
Fire system box 1 and 2
T&H Controller 1
Thermo controller 1
Loading configuration:
(3) FOUP Loaders
Uni-cassette
With system controller
Carrier station:
Type: FOUP
(3) Cassettes
Uni-cassette system
Coaler unit:
(6) Dispense nozzles
With temperature controlled lines for etch unit
RDS Pump (Millipore)
Rinse nozzle: Back / EBR / Solvent bath for etch unit
Rinse system:
(3) Liters
(2) Tanks
Buffer tank system
Degassing system
Programmable side rinse
PR Nozzle (1, 2, 3, 4, 5,6)
(6) Bottles (1 Bottle / 1 Nozzle)
Thinner supply: CCSS
AMC Suck-back valve
Drain: Direct drain
Developer unit:
H Nozzle
Stream nozzle for DI rinse
(2) Points for back side rinse
Developer system:
(3) Liters
(2) Tanks
Buffer tank system
Developer supply: CCSS
Degassing system
Developer temperature control system
Drain: Direct drain
I/F Wafer stage type: NIKON SF130
Adhesion unit
Chamber (Build-in hot plate)
HMDS Tank with float sensor
HMDS Supply: Local bottle
(5) Low temperature hot plates (LHP)
(4) Chill plates (CPL)
(2) Precision chilling hot plates (PHP)
TCP Unit
(2) TRS Units
Wafer edge exposure (WEE)
UV Sensor: I-Line
Chemical cabinet:
Solvent
HMDS
DEV Chemical cabinet
SHINWA Series (ESA-8) Temperature and humidity controller
Temperature control unit (TCU)
AC Power box
2003 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON CLEan Track ACT 12是一種光刻設備，通過在晶圓表面創建薄膜圖樣用於光刻。該系統采用專用的清潔軌道，防止晶圓表面在暴露過程中受到汙染，並且與其他常規系統相比，提高了工藝能力。該單元旨在實現更高分辨率的模式和更好的可重復性。它有一個真空機以及烘烤過程，積極工作，以幹燥光刻膠和產生更好的圖樣精度。該工具配有專門用於晶圓預清洗的清潔軌道和用於暴露的主軌道。預清洗軌道采用氧化工藝，有助於凈化晶片表面，改善光加工膜的質量。預清潔還消除了空氣中塵埃顆粒或其他表面汙染物造成的任何汙染。主軌設計為提供穩定的低壓電源，確保曝光過程的高功率穩定性。主軌道采用高精度光學設備，保證了曝光過程的準確性和穩定性。該模型具有各種可根據用戶要求定制的編程操作周期。它還內置了有助於防止任何事故和設備損壞的安全功能。它有一個大的用戶友好的顯示屏，可以讓用戶輕松地訪問設備的所有功能。該系統還有一個算法驅動的優化單元，允許用戶優化曝光時間和工藝條件，以達到所需的模式精度和工藝產量。它還可確保曝光時薄膜的均勻性,並提供更好的加工能力。該機還可以與其他系統（如蝕刻、沈積和剝離設備）連接，以提高加工速度和更好的圖樣質量。總體而言，TEL Clean Track ACT 12是一種強大的光阻工具，能夠實現高精度和可重復性。它具有許多為實現精確的模式結果而量身定制的特性，並確保了成品晶片的優越產量。該資產旨在提供可靠和高效的性能,使用戶能夠生產高質量的產品並減少浪費。
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