二手 TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12 #9239542 待售

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ID: 9239542
晶圓大小: 12"
優質的: 2005
SOG System, 12" Process block: Single block system Hard Disk Drive (HDD) CSB: Equipment controller Stage / Indexer: (4) Foup indexers CRA / Cassette block robotics arm PRB: SOD Unit 2-1: (2) Resist dispense nozzles Side rinse nozzle (Programmable side rinse EBR) Coat cup temperature synchronized control system Photoresist temperature control Motor flange temperature control Photo resist drain type: Direct gravity drain type Cup type: PP for upper cup & inner cup SOD Unit 2-2: (2) Resist dispense nozzles Side rinse nozzle (Programmable side rinse EBR) Coat cup temperature synchronized control system Photoresist temperature control Motor flange temperature control Photo resist drain type: Direct gravity drain type Cup type: PP for upper cup & inner cup PRA / Process Block Robotics Arm (6) LHP / Low Temperature Hot Plate Stations (4) CPL / Chilling Plate Process Stations TRS / TCP: Transition Stage Unit CWH / Cup Washer Holder Unit External chemical supply system: Solvent supply system for (2) SOD units Solvent chemical type Canister tank to auto supply system with (2) PCS pump tanks Tank type: (2) Pump tanks (3 Liters/Tank, Teflon) to cover (2) coat units TEL OEM TCU / Temperature control unit: SMC Circulator pumps and thermo controller Power transformer AC cabinet: 208 VAC, 3-Phase, 50/60 Hz 2005 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12是一款先進的光阻工具設備,旨在在現代半導體制造妝容中達到生產和工程工藝應用的高性能標準。該系統具有硬件和軟件組件的獨特組合,所有這些組件共同提供高效、精確的光刻膠處理解決方案。其核心是一個多室單元,其中包括一些最先進的組件,包括一個高性能的軟件平臺,旨在確保用戶友好的操作。該平臺確保了可靠的結果、直觀的控制和快速的處理,有助於最大限度地提高效率。此外,機器本身還提供了許多特性和功能,可實現最大程度的多功能性和可定制性,以滿足各種工藝需求。該工具的核心在於它的多腔室設計,即每個腔室支持一個獨立的過程,從其他完全隔離。這使用戶能夠為每個操作自定義光刻膠處理的工藝參數和控制級別。再者,多介質加速器腔采用噴射泵的超精密控制,以確保光敏材料的一致、準確、精確的色散。該資產建立在一個智能集成各種用戶功能的平臺上,如模型級流程洞察,以方便提高光刻膠處理時間的準確性和速度。這確保了所有操作的高度可靠的過程。此外,該設備通過易於使用的數據采集功能和完全集成的統計分析包,設計為最大限度地提高流程吞吐量和生產率。最後,TEL Clean Track ACT 12是圍繞一個堅固的安全系統構建的,該系統旨在顯著降低材料輸入不正確的風險,並最大限度地減少因汙染造成的損失。這保證了整個設備中所有光刻膠加工的過程完整性和產品質量。總之,TOKYO ELECTRON CLEAN TRACK ACT 12是一款功能強大的光致抗蝕劑工具機,為用戶提供先進的硬件和軟件組件,所有這些組件都設計為提供高性能、可靠、可靠的光致抗蝕劑加工工具。資產是圍繞一個可定制的多室模型構建的,該模型具有用戶友好的控制、快速處理吞吐量、直觀的數據采集和統計分析工具,以及有助於減少汙染風險的強大安全設備。所有這些屬性協同工作,以確保所有光刻膠相關過程的最大精度和效率。
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