二手 TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12 #9242356 待售
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ID: 9242356
晶圓大小: 8"
(2) Coater / (4) Developer system, 8"
Dual block system
Wafer flow: Left to right
Block 1:
C/S Block, 12"
Stage / Indexer:
Non-SMIF / Open uni-cassette
CSB / Cassette stage block
Block 2:
P/S Block, 12"
(2) Coat units: 2-1 & 2-2
E-Box
Cup base, 12"
(2) PANASONIC Motor drives
PRA / Process block robotics arm
Pincette, 12"
(4) HCP
(4) LHP
TCP
(2) ADH / Adhesion
SHU
Block 3:
P/S Block, 12"
(4) Developer units: 3-1, 3-2, 3-3 & 3-4
E-Box
Cup base, 12"
Out cup, 12"
(4) YASKAWA Motor drives
(4) H Nozzles 1 & 2
PRA / Process block robotics arm
Pincette, 12"
(4) PHP
(4) LHP
(3) HCP
Block 4:
I/F Block, 12"
WEE Unit
CPL
IF Arm
Chemical supply cabinets: (2) Coater & (4) Developer
Power transformer AC cabinet
Temperature & humidity controller: SHINWA T&H ESA-8
TCU: (2) ACT 12 Frames
Missing parts:
Block 2 (P/S Block):
(2) Spin I/O boards
(2) Spin motors
(2) Out cups
(2) PR Nozzle assy
Air sol V/V
Oven:
(2) E5ZE
Z Motor
Lower drain sheet metal & hardware
Block 3 (P/S Block):
Developer:
(4) Spin I/O boards
(4) Spin motors
Oven:
PHP Flow meter assy box
E5ZE
REX Controller.
TEL/TOKYO ELECTRON CLEan Track ACT 12是一種將可靠光刻與自動化工藝系統相結合的高品質光刻設備。該系統旨在促進矽片生產中的大容量光刻。該單元包含離子束機、潛水冷卻工具、曝光室和原位光學資產。離子束模型負責光致抗蝕劑的精確蝕刻。潛水冷卻設備有助於降低系統中的熱應力和汙染水平。曝光室向要開發的光刻材料發出主動輻射。這種輻射可以從多種波長中選擇。原位光學單元負責控制光強度。這一特性很重要，因為它可以讓光刻機精確再現芯片設計。TEL Clean Track ACT 12功能的激活分階段完成。首先輸入所需的光學設置，然後將光刻膠暴露在輻射下。暴露過程完成後，離子束工具被致動；這有助於蝕刻光刻材料。最後,使潛水冷卻設備能夠降低熱應力和汙染水平.TOKYO ELECTRON CLEan Track ACT 12還配備了警報和/或監控模型。這有助於檢測過程中的任何故障,還可以提供維護數據。此功能可確保光刻設備高效運行,並防止對系統造成任何潛在損壞。Clean Track ACT 12是一種高效可靠的光刻設備。它能夠產生高精度的圖案設計，並且可以很容易地與自動化的工藝系統相結合。這一特點在矽芯片的生產中尤其有益。離子束機、潛水冷卻工具、曝光室和原位光學資產的結合，確保了光致抗蝕劑被精確蝕刻並暴露在所需波長下。警報和監控模型進一步提高了設備的效率和可靠性。
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