二手 TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12 #9244064 待售

看起來這件物品已經賣了。檢查下面的類似產品或與我們聯系,我們經驗豐富的團隊將為您找到它。

ID: 9244064
晶圓大小: 12"
優質的: 2008
Resist coater / Developer system, 12" Single block Track 1: Coater cup (2) Developer cups ADH Track 2: Resist reduction: RRC Developer: H Nozzle Resist pump: RDS 10 ml Oven configuration: PEB: (2) PHP COT: (2) PHP Post bake: (3) CHP Track chemicals: Resist supply: Gallon bottle Thinner: OK73 2008 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12是一款用於半導體製造過程的光刻膠開發設備。該系統旨在協助生產高度精確和優化的電子元件。它是一個復雜的技術解決方案,允許創建具有可重復結果和提高統一性的模式。ACT 12通過對光照射到光敏抗性材料上而起作用。這一過程被稱為光刻,用於在抗蝕劑材料上創建詳細的圖案。一旦安裝到位,就會開發出抗蝕劑材料,從而形成設備的模式。該裝置采用了曝光激光和粒子提升技術的獨特組合,以產生優異的效果。ACT 12有一個集群單元,由四個單獨的系統組成,采用三種不同的光源選擇:準分子激光器(266nm)、氟化rypt (248nm)和氟化氙(193nm)。它還配備了專用的控制機器,並配有用於數據管理的CPU,以確保每個光源都可用於實現最佳性能。該工具的Exposure Laser可實現卓越的打印分辨率,具有幾何精度和均勻性。顆粒提升功能有助於確保抗蝕劑材料的翹角在顯影前被剃光。這將促進更好的角分辨率和緊密模式的對齊。ACT 12是Clean Track系列的標準模型,能夠以90秒的循環時間進行開發過程。它還提供更高的吞吐量,處理速度高達5.7厘米/秒。該資產采用超清潔不銹鋼真空室建造,可無塵生產,並配有可移動、可調的舞臺,可快速、方便地安裝基板。綜上所述,TEL Clean Track ACT 12是一個最先進的光刻膠開發模型,為準確性和可靠性而設計。它提供卓越的打印分辨率,具有快速的周期時間和高吞吐量。該設備能夠產生高精度和均勻的圖樣,並具有可重復的效果,並采用超清潔不銹鋼真空室來支撐無汙垢生產。
還沒有評論