二手 TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12 #9245699 待售

TEL/TOKYO ELECTRON CLEan Track ACT 12是專門為集成電路（IC）鑄造市場而設計的光刻設備。該系統在單一平臺中結合了掩模對準器和部分塗層技術，為IC制造中的光刻工藝提供了經濟高效的解決方案。掩模對準技術用於將光掩模精確對準晶片，確保光刻膠高度精確地暴露在半導體材料上。局部塗層技術允許選擇性塗覆光刻膠,從而能夠在側面尺寸很小的IC特征上進行有效的圖樣化。TEL Clean Track ACT 12具有先進的基板處理單元,可提供最佳性能和可靠性。機器支持直徑達300毫米的晶片，並能以每小時600晶片的速度曝光晶片。該工具還具有先進的溫度控制曝光階段,可確保精確和一致的曝光時間,無論環境照明或溫度波動如何。除了暴露能力外，TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12還具有創新的化學工藝，旨在減少顆粒汙染，提高芯片產量。該資產利用一種專利的幹蝕刻技術，將光刻膠蝕刻到IC制造過程所需的獨特圖樣中。這種幹蝕刻技術已被證明可以減少顆粒堆積，導致更高的芯片產量和更少的被拒絕的晶圓。Clean Track ACT 12還具有專有的自動粒子計數模型（APCS）。這一設備使操作員能夠在操作過程中監控機器內部的顆粒計數，允許進行調整以減少顆粒汙染並提高芯片產量。總體而言，TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12為IC的制造提供了一個可靠和經濟高效的解決方案。該系統結合了先進的掩模對準技術和局部塗料技術，提供高精度的光致抗蝕劑曝光，同時還利用創新的化學工藝減少顆粒汙染，提高芯片產量。先進的基板處理單元和自動粒子計數機進一步有助於確保結果的可靠性和質量。