二手 TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12 #9252495 待售

ID: 9252495
晶圓大小: 12"
優質的: 2004
Coater / (2) Developer system, 12" FOUP Modules: (4) COT (9) LHP (6) HHP (4) PHP 2004 vintage.
「TEL/TOKYO ELECTRON CLEan Track ACT 12」是一種用於開發半導體基器件的光刻設備。該系統允許通過使用先進的曝光和曝光後過程對電路(如集成電路)進行精確的制圖。TEL Clean Track ACT 12是根據光刻曝光法操作的自動化單元。這種方法包括使用一個潔凈的房間以及各種工具和技術來精確地將復雜的圖樣蝕刻到矽片上。利用光學接近校正(OPC)和過程控制等競爭技術來確保精確的過程控制。TOKYO ELECTRON CLEan Track ACT 12允許使用高分辨率面板和激光直接成像(LDI)來製造微小的結構。本機配有熱板、自旋塗層、液體分配器和TEL Zeus曝光模組。這些組件中的每一個,與光刻技術結合起來,都可以實現電路最精確、最精確的模式。自旋塗層用於將光刻膠均勻地分散到晶片上,而熱板則用於加熱光刻膠。真空輔助的液體分配器有助於分配均勻量的光致抗蝕劑,以確保一致性。TOKYO ELECTRON Zeus模塊支持激光直接成像過程,允許一次曝光12個晶圓。真空輔助液體分配器是清潔軌道ACT 12的關鍵組成部分。此特性有助於實現光刻膠的高度均勻性、準確性和輪廓控制。這種元素組合確保了光致抗蝕劑沒有碎片,從而在生產半導體組件時提供了更清潔的墻壁和更好的性能和產量。最後,TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12為用戶提供了控制過程的能力。它有一個內置的流程控制軟件工具,允許用戶監控流程並校準設置以產生精確的模式。這有助於降低缺陷率並優化過程控制,以實現更高效的光刻開發。總之,TEL Clean Track ACT 12是一種用於開發半導體基器件的高度先進的光致抗蝕劑資產。它使用了多種工具,結合了先進的曝光和曝光後過程,以減輕電路的最準確和精確的模式。
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