二手 TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12 #9259917 待售
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單擊可縮放
ID: 9259917
晶圓大小: 12"
優質的: 2002
Resist coater / Developer system, 12"
Single block
Track 1:
PI Coater cup
(2) Developer cups
ADH
Track 2:
Resist reduction:
Developer: H Nozzle
Resist pump:
SHV 15 ml (Line 1)
RDS 10 ml (Line 2~6)
Oven configuration:
(2) PHP
(3) CPL
(4) Standard LHP
(2) High EXH LHP
Track chemicals:
Resist supply:
Gallon bottle
Coat bottle
Thinner: OK73
2002 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON CLEan Track ACT 12是一種設計用於晶圓和掩模制造的光刻加工設備。該系統為工業光刻操作提供了卓越的性能、可靠的結果和緊湊的占地面積。該裝置采用紫外線激光掃描儀，可直接成像光刻膠，圖像質量和分辨率都很好。激光在光致抗蝕劑中產生精確的曝光模式，具有最小的抗灰殘留或能量損失。先進的掃描儀設計還允許高速處理和易於操作。該機還具有自動化的過程控制功能,以確保可重復和穩定的結果。具備激光強度控制、溫控和運動控制、抗圖樣、抗厚度控制和工藝跟蹤功能。集成工具可以執行多個暴露過程,同時跟蹤每個過程。除了提高性能外,TEL Clean Track ACT 12還改善了環境足跡。該資產采用優化設計,以減少用水和電力消耗,並改進維護,減少零件數量。它還具有更安靜的操作。TOKYO ELECTRON CLEAN TRACK ACT 12是晶圓和掩模製造作業的理想選擇，需要從大型生產到小型生產運行的精密控制和性能。該模型在很小的占地面積內提供了卓越的性能,使其成為工業光刻操作的經濟高效的解決方案。
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