二手 TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12 #9265669 待售
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ID: 9265669
晶圓大小: 12"
優質的: 2006
Resist coater / Developer system, 12"
Single block
Track 1:
(2) Coater cups
(2) Developer cups
ADH
Track 2:
Resist reduction: RRC
Developer: SH Nozzle
Resist pump: RDS 10 ml
Oven configuration:
(4) PHP
(2) CHP
(2) CWH
(2) CPL
Track chemicals:
Resist supply: Gallon bottle
Thinner: OK73
2006 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON CLEan Track ACT 12是一種全自動的光致抗蝕劑設備,旨在提高大型電子裝配中使用的掩模制作工藝的效率。它的高級設計采用了一系列有圖案的清潔技術,包括噴霧、開發和沖洗系統,以確保最高質量的清潔結果。該系統具有無與倫比的清潔性能,每小時可處理多達1,000個晶圓。TEL Clean Track ACT 12采用雙臂設計,由活動清潔臂和固定臂組成,以優化清潔過程。這樣可以確保將溶液均勻地分配到晶片的整個表面上,以獲得均勻的結果。該裝置配備了一個六噴嘴噴霧器,該噴霧器優化了圖案精度,覆蓋了傳統噴霧器面積的三倍。TOKYO ELECTRON CLEAN TRACK ACT 12還設有一個包括增壓室的綜合開發模塊,以確保一致和可重現的結果。該模塊減少了溶液的蒸發和驅散,從而實現了精確可靠的開發和蝕刻過程。該機還利用沖洗技術,最大限度地減少交叉汙染,提高性能。Clean Track ACT 12還提供了多種方便用戶的選項,例如能夠監控和調整清潔臂與晶圓之間的距離,以及能夠控制清潔溶液的成分。該工具專為易於使用而設計,操作人員只需進行最少的培訓,即可快速進行設置和配置。此外,該資產的設計目的是盡量減少維護需要,采用全尺寸風扇過濾器模型,確保清潔空氣在整個腔室內流通,而無需經常清洗或更換。最後,TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12提供了一種可靠、自動化的光致抗蝕劑設備,設計用於高效的掩模制作工藝。它的高級設計結合了一系列全面的圖樣清潔技術和用戶友好的選項,使操作員能夠快速、準確地控制清潔過程。這樣可以確保最高級別的性能,而最低的維護需求。
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