二手 TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12 #9269255 待售
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TEL/TOKYO ELECTRON CLEan Track ACT 12是一種光刻系統，為優越的光刻精度和工藝性能而設計。光致抗蝕劑是一種化學工藝，用於生產集成電路元件和其他微電子器件。TEL Clean Track ACT 12是以化學材料為基礎的兩步系統，由三個主要成分組成：正抗光劑、預自旋抗光劑和負抗光劑。正光敏抗蝕劑用於接觸蝕刻、柵極接觸蝕刻、介電蝕刻、多晶矽摻雜等半導體制造工藝。這種抗蝕劑對紫外線有很高的靈敏度，在晶圓表面上產生運動軌跡圖案。預旋抗性在半導體制造中也起著重要作用。它穩定了薄膜結構，並啟動了蒙版圖案的蝕刻。最後，負性光致抗蝕劑用於去除圖樣中不希望的部分，而不攻擊所需的部分。TOKYO ELECTRON CLEAN TRACK ACT 12由於具有精確控制抗蝕劑厚度、圖樣CD和抗蝕劑均勻性的能力，提供了卓越的光刻精度。這是通過其先進的膠片開發監控、高精度的背面反射工具以及其他集成的過程控制功能實現的。此外,系統還配備了自動進給組件,這對於生產幾何形狀和尺寸一致的元件至關重要。此外，Clean Track ACT 12具有高分辨率電梯機構，允許晶圓和基板之間有均勻的抵抗間隙。結果是優質晶片零件汙染減少，產量提高，性能提高。
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