二手 TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12 #9276181 待售

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ID: 9276181
晶圓大小: 12"
優質的: 2004
(2) Coat / (2) Developer system, 12" Direction: Left to right System power rating: AC, 208 V, 3 Phase Loading configuration: (3) FOUP Main system Coater unit (2-1, 2-2 Module): RDS Pump Resist supply: Gallon bottle DEV unit (2-3, 2-4 Module): Developing nozzle: SH ADH Unit: (2) CWH (2) CHP (4) PHP (2) CPL (2) TRS 2004 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12是一款由TEL開發的光致抗蝕劑設備,其設計旨在為半導體行業提供高水平的化學清潔度。系統由兩個階段組成;第一階段是預塗層,專門設計用於預處理晶片表面,減少工藝殺手汙染。這種預塗層之後是第二階段,其中包括專門設計用來清除晶片表面任何有害汙染物的化學清潔。TEL Clean Track ACT 12單元提供卓越的化學清潔度和卓越的圖像質量,有助於確保盡可能高的產量。機器的操作方法是首先在晶片表面上使用預塗層,以清除任何汙染物並確保清潔。這是通過在晶片上釋放專門設計的流體溶液來完成的。當流體噴灑到晶片上時,它的作用是減少表面的顆粒和其他有害碎片。這樣可以更有效地進行化學清潔。一旦應用了預塗層,就會啟動刀具的第二階段。這一階段涉及一種旨在清除任何其他汙染物和其他有害物質的化學清潔。為了開始這一過程,將一種高度濃縮的化學混合物應用於晶圓表面。然後這種混合物將暴露在紫外線下,以及一種有助於加熱晶片表面的熱板資產。這兩個組分然後協同工作,有效清潔晶圓表面,進一步消除不需要的顆粒。最後,一旦晶片被清洗後,添加一個後塗層,以幫助抵抗任何進一步的外來汙染物。這種後塗層提供了光滑的表面,有助於進一步保護晶片免受粒子和其他有害元素的傷害。結果是一個幹凈高效的表面,可以用於各種不同的產品和項目。TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12模型在半導體行業以其卓越的化學清潔度和圖像質量而備受推崇。它有助於消除手動清洗的需要,並提供優越的生產產量。它是半導體行業和要求最高清潔度和效率的客戶的重要工具。
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