二手 TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12 #9278612 待售
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ID: 9278612
(4) Coater / (4) Developer system, 12"
Right to left
Carrier type: Notch
25-Slots
(3) Main controllers
(2) Processor blocks
(2) PRB's
(2) Thermo controllers
NIKON Stepper
H-Type nozzle
CSB
IFB
Main system:
Main frame with system controller
(4) ASYST RFID FOUP Systems
Normal cassette type
Coater unit (2-1, 2-2, 2-3, 2-4):
(4) Dispense nozzles with temperature control lines
RDS pump
Rinse nozzle: EBR / Back rinse / Solvent bath
(2) Rinse systems: (2) Buffer tank systems (3 Liters)
Degas system
Programmable side rinse
Direct drain type
Developer unit (3-1, 3-2, 3-3, 3-4) NDP type:
NLD Nozzle
Stream nozzles for DI rinse
2-Points for back side rinse
(2) Developer systems: (2) Buffer tank systems (3 Liters)
Degas system
Developer temperature control system
Direct drain type
(2) Adhesion units:
100% Sealing closed chamber (Built-in hot plate)
HMDS Tank with float sensor
Local HMDS supply
(12) Low Temperature Hot Plates (LHP)
(2) Cup Washer Holders (CWH)
(13) High-Speed Cill Plates (HCP)
(6) High-Precision Hot Plates (PHP)
Transition Chill Plate (TCP)
(2) Transition Stages (TRS)
(2) Wafer Edge Exposures (WEE)
Chemical cabinet 1: HNDS and Solvent supply system
Chemical cabinet 2: DEV Solution and DIW supply system
(2) Temperature Control Units (TCU)
MFC
Missing parts:
IRA Z-Axis driver
IRA Y-Axis driver
IRA TH-Axis driver
Temperature and humanity controller
Hard Disk Drive (HDD)
Power supply: AC 200/220 VAC, 3 Phase
2004 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON CLEAN TRACK ACT 12是由TEL（TOKYO ELECTRON）開發的光致抗蝕劑處理設備。它支持半導體器件制造中涉及的光刻工藝和後處理步驟。該系統結合了激光掃描儀、液體浸沒裝置和自動分配和對準裝置，使其成為一種用途廣泛的光刻加工工具。激光掃描儀用於利用超短激光脈沖寬度將矽晶片上的光致抗蝕層曝光。對激光脈沖進行了微調，以反射光刻膠層，從而獲得精確的特征圖樣。液浸機利用加工室內分配的液體的自然浮力，確保均勻的光敏塗層。分配和對齊器允許根據需要精確應用額外的抗蝕層。TEL Clean Track ACT 12允許不同的曝光和抵抗處理參數,這些參數可以調整以改變所需的特征模式。它為蝕刻過程提供了高密度特征陣列或線寬控制的選擇。這為用戶提供了根據特定設計要求定制處理的多功能性。該工具內置了安全功能。激光掃描儀中的串聯攝像機傳感器確保晶片正確定位,並且不存在汙染。此外，浸入式資產提供了一種有效的減少光刻膠汙染的手段，使用戶無需擔心晶圓或加工室的汙染。TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12專為適應300毫米晶圓加工而設計,比其前代產品提供了更好的吞吐量。該模型使用低成本消耗品，能源使用效率極高，使用戶能夠降低生產成本，同時減少環境足跡。總體而言，Clean Track ACT 12是一種最先進的光敏處理設備，旨在滿足現代半導體器件的需求。其激光掃描、液體浸入和對準技術使生產能夠快速周轉，而其內置的安全特性確保了最高水平的工藝控制得以維持。該系統的低成本和高能效設計使其成為任何半導體生產過程中一個有價值的經濟高效工具。
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