二手 TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12 #9280162 待售
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ID: 9280162
Coater / (2) Developer system, 12"
CSB
PRB1
IFB
Chemical box
Thermo controller
(2) Fire system boxes
Left to right
Carrier type: FOUP
Loading configuration: 3 FOUP's
(3) Main controllers
Main system:
Main frame with system controller
Carrier station:
Type: FOUP Cassette
(3) Cassettes
Unicassette system
Coater unit:
(6) Dispense nozzles with temperature controlled lines
RDS Pump
Rinse nozzle: Back / EBR / Solvent bath
Rinse system: (2) Buffer tank systems (3 Liters)
Degassing system
Programmable side rinse:
(1-6) PR Nozzles
(6) Bottles (1 Bottle / 1 Nozzle)
CCSS Thinner supply
AMC Suck-back valve
Direct drain
I/F Wafer stage type: NIKON SF130
Chemical cabinet: Solvent, HMDS, DEV
Developer unit:
H-Nozzle
Stream nozzle for DI rinse
2-Points for back side rinse
Developer system: (2) Buffer tank systems (3 Liters)
Degassing system
Developer temperature control system
Direct drain
Adhesion units (ADH):
100% Sealing closed chamber (Built-in hot plate)
HMDS Tank with float sensor
Local HMDS supply
(5) Low Temperature Hot Plates (LHP)
(4) Chill Plates (CPL)
(2) Precision Chilling Hot Plates (PHP)
(2) TRS
Transfer Chill Plate (TCP)
Wafer Edge Exposure (WEE):
UV Sensor: i-Line
SHINWA Series ESA-8 Temperature and humidity controller
Temperature Control Unit (TCU)
AC Power box
2004 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12是一種最先進的光致抗蝕劑設備，旨在幫助用戶在各種基板上產生幹凈、高分辨率的圖樣。光致抗蝕劑是一種對光敏感的材料，用於許多工業應用，如集成電路制造，在基板上創建電氣連接和結構。ACT 12使用聚焦、照明和舞臺控制系統的組合，在高達12微米的分辨率範圍內產生模式。ACT 12系統的主要組成部分是高分辨率光學顯微鏡。它能夠比傳統光學顯微鏡更精確的成像，也提供了更大的視野。然後，一個特殊的照明單元為制圖過程提供精確的照明，當與專用級控制器結合使用時，允許最多30個階段的過程控制。這種組分組合允許在各種基板上精確陣列微型電路元件，分辨率高達12微米。除了光學顯微鏡和照明機外，ACT 12還擁有集成的光阻控制工具。該資產有助於精確調整光刻膠模型的各種參數，以獲得最佳性能。ACT 12還包括一個耐腐蝕的不銹鋼碗，非常適合在光刻膠施用工藝之前安裝基板。ACT 12設備的另一個顯著特點是能夠在廣泛的環境條件下運行。該系統具有耐腐蝕的結構，適用於潮濕或腐蝕性環境，以及極端溫度。這在敏感或危險位置的基板上生產結構時特別有益。TEL Clean Track ACT 12是一種最先進的光阻裝置,可精確控制各種基板上的微型電路元件陣列的參數。ACT 12以其光學顯微鏡、照明級和集成光阻控制機，在高達12微米的分辨率範圍內產生幹凈、高分辨率的圖樣。此外,它堅固耐用,可以在各種危險環境中運行。
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