二手 TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12 #9373073 待售
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ID: 9373073
晶圓大小: 12"
優質的: 2002
(2) Coater / (2) Developer system, 12"
Load port: (3) FOUPs
Main controller: Type 2
Coater 2-1 and 2-2:
R1-R4
(4) PR Nozzles
EBR
Resist pump type: RRC Pump
PR Filter type: Housing type
Developer 2-3 and 2-4:
Developing nozzle: Dual H nozzle
Top rinse: Single nozzle
Plates: (2) ADH, (7) LHP, (5) CPL, (4) PHP, (2) TRS, TCP
IFB: WEE, Buffer, CPL, THS
SHINWA ESA-8-T-01 Temperature and humidity controller
SMC INR-244 Temperature control unit
Chemical cabinet:
HDMS: Gallon bottle supply
Buffer tank: 3 L
Solvent: CSS With 3 L buffer tank
Developer: CSS with 3 L buffer tank
AC Power box: AC200/220 V, 157 A, 10 kA, 3 Phase
2002 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON CLEan Track ACT 12是一款光刻設備，設計用於在晶圓成像基板上提供精密光刻。它支持先進的晶圓處理技術,包括高通量蝕刻、高密度接觸曝光和保形塗層應用。該系統將先進的粒子控制技術與強大的硬件和軟件設計相結合，以獲得最大的光刻產量。TEL Clean Track ACT 12單元包括一個12英寸真空卡盤和6個多區域溫度控制，用於快速晶圓處理。這與用於晶圓冷卻、處理和清潔的超高真空工藝相結合。這減少了汙染物在晶圓的暴露區域和未暴露區域之間的轉移，確保了工藝結果的一致性和幹擾的最小化。機器的核心是提供精確成像和高寬高比曝光的CO2激光投影鏡頭。高精度對準工具可提供納米級精度,提供高級光刻應用所需的可靠性和準確性。該資產最多可容納50種晶圓尺寸變化,包括雙面曝光,通過同時對晶圓兩側進行成像,使生產效率提高一倍。而且，模型的擴展聚焦範圍允許0.4至40微米的小線路曝光，使用戶能夠降低中高密度應用電路的生產成本。用戶友好的流程控制軟件提供了簡單的設置和簡單的操作，允許在廣泛的流程配方中輕松操作。設備與所有主要的抗蝕劑和開發者兼容，確保最佳光阻。綜上所述，TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12系統是一種可靠、精確的光阻裝置，旨在提供精確的晶圓成像。其強大的硬件和軟件設計,加上先進的激光成像和焦點控制,為高吞吐量、小線路成像和雙面曝光過程提供了卓越的效果。
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