二手 TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8 #293767233 待售
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TEL/TOKYO ELECTRON ACT 8是一種設計用於先進半導體制造工藝的高性能光致抗蝕劑設備。光致抗蝕劑系統配置為控制晶片上光致抗蝕劑薄膜的曝光模式。這種類型的工藝是必要的，以實現現代、精密芯片所需的極其精確的圖案和特定幾何形狀。TEL ACT 8系統由Dispense單元、CD測量機和Laser Direct Writer三個主要組成部分組成。Dispense Tool能夠將光刻膠薄膜材料精確地傳遞到基材上。CD測量資產設計用於測量光刻膠片上電路圖樣的臨界尺寸，以獲得精度和精確度。最後，Laser Direct Writer將一個高度精確的激光束輸出到光刻機上，從而清晰地描繪出目標電路模式。TOKYO ELECTRON ACT 8模型具有提高性能的技術，包括一個便於快速自動化圖像處理的掃描電子顯微鏡成像設備和一個用於3維光刻膠圖樣保形書寫的大功率諧波脈沖發生器。該機還具有優化的梁輪廓穩定器和下一代接近效應校正模塊。這些特性保證了高精度的光刻膠圖樣，並通過精確的圖樣補償來保持無邊距的完整性。該系統進一步能夠測量光敏膠片的曝光劑量，以提供關於曝光過程的反饋。TOKYO ELECTRON ACT 8單元采用先進的控制和監控算法編程，旨在提供對曝光過程的全面控制。它具有內置的數據庫管理功能,允許用戶在整個曝光過程中實時記錄參數和結果。機器通過局域網連接主機計算機，提供與其他設備和人員的通信。ACT 8精確、精確地提供薄膜曝光模式，從而使光敏抗蝕劑層在制造過程中產生高產率。它結合了高度可靠的薄膜傳送、精確的模式識別和控制,以及高效的圖像分析以及先進的控制和數據庫功能,使其成為現代半導體產品制造必不可少的工具。
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