二手 TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8 #9057502 待售
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已售出
ID: 9057502
晶圓大小: 8"
優質的: 2000
Single block system, 8"
(3) Blocks interface: Cassette-process-side cabinet interface
(2) Transfer robot arms: Cassette and process
(2) SOG Coaters
(2) SOG nozzles with temperature control
TARC compatible: Teflon coated chamber
(4) Chill plate process stations with temperature control
Transfer chill plate
(4) Low temperature hot plate process stations with temperature control
(4) High temperature hot plate process stations with temperature control
Sub-components:
Fluid temperature controller
Temperature and humidity controller
Side chemical cabinet
AC Power box
SECS/GEM compatible
2000 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON CLEan Track ACT 8是一種光刻設備，設計用於半導體器件制造中的精密蝕刻、塗層和粘附。主要用於電路板組裝和晶圓加工領域。系統使用一種特殊形式的光刻膠（PR）材料，應用於晶圓表面，並允許光源蝕刻材料的特定部分。使用真空塗層設備將PR材料應用於表面,該設備將PR材料均勻地分布在表面。組件一旦被PR材料包圍，光源就被激活，它會根據指定的設計數據選擇性地蝕刻材料。通過調整光照強度、曝光時間和光源角度，可以達到組件所需的圖案。該裝置的設計是為了精確定位公關材料，這對於制造準確和精確的部件至關重要。實現本機具有高分辨率級刀具和空氣軸承級資產，精度為3微米。空氣軸承級模型可用於在蝕刻前準確定位元件。除蝕刻外，該設備還能夠塗覆單一應用的產品內外角。這進一步促進了準確和精細設計的產生。為確保均勻性,系統配備了對齊和均勻性檢查功能,可以檢測偏離均勻性的情況,從而能夠及時進行調整。此外，該裝置還能夠進行金屬沈積、活化、粘合劑硬化等粘附過程。機器施加了非常強的真空，以確保粘合劑的應用是一致的，並且硬化過程是精確的。總體而言，TEL Clean Track ACT 8是一種精確且用途廣泛的光致抗蝕劑工具，非常適合制造半導體器件。該資產具有必要的功能,以確保高質量的產品與目標設計幾乎沒有偏差。
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