二手 TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8 #9165438 待售

TEL/TOKYO ELECTRON CLEan Track ACT 8是一種用於制造集成電路的光敏設備。該系統由一個專門的多色激光源、一個光學掩模和一個分層的光刻膜堆棧組成。激光源提供了高度精確和局部化的徑向能量通量，使光致抗蝕劑能夠通過光學掩模曝光。單元中使用的光敏堆棧至少由四層組成。第一層是掩蔽層，作為保護底層免受激光束照射的物理屏障。第二層是感光層，由具有感光特性的光刻膠或化學物質組成。這一層經過專門設計，只允許在暴露於光線下才發生蝕刻。第三層是顯影劑，有助於去除感光層中不需要的部分。最後一層是鈍化層，它可以防止任何不需要的照相區域曝光。TEL Clean Track ACT 8的主要優勢在於其高分辨率和可重復成像能力，這是由於來自超細運動激光源的聚焦能量通量所致。激光光源的光斑尺寸為100-400納米，可實現高精度成像，提高制造精度。此外，光致抗蝕劑層采用增強的分辨率和通過控制來配制，消除了傳統光致抗蝕劑工藝所觀察到的固有扭曲照片。該機的多層處理特性進一步提高了效率。這使得它可以在一次曝光的情況下連續執行多個步驟的蝕刻過程；光致抗蝕劑層被設計為足夠厚，使其能夠適當程度的光照。多層還使工具能夠同時去除遮罩層和感光層的不需要的部分。光致抗蝕劑層與聚焦激光束的高度集成還能實現光燒蝕，這一過程使電路在結構上與底層基板集成。這一工藝使得基材可以通過高度的控制進行預拋光，消除了蝕刻後進一步拋光的需要。總體而言，TOKYO ELECTRON CLEAN Track ACT 8光抗蝕劑資產提供了一種極為精確和高效的方式來制造具有緊密公差的集成電路，從而實現了高精度電路的設計和制造。光致抗蝕層采用適當的分辨率平衡並通過控制來配制，激光通量允許單次曝光進行全步處理。此外，光燒蝕使工藝更有效率和成本效益，同時提供高精度。