二手 TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8 #9190707 待售
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已售出
ID: 9190707
晶圓大小: 8"
優質的: 2000
Resist coater / Developer, 8"
Multi block
Wafer type: Notch
In-line with stepper type: NIKON B12
Wafer flow direction: Right to left
Spinner unit configuration: 2C
Function of coater heads: (4) Nozzles / Coater
With individual pump per nozzle / Prewet nozzle
Main body frames: (3) Blocks
Indexer
Coater / Developer
Interface
SMIF: (3) Indexers
Robot arm: Ceramic / Aluminium
LHP: 250 deg (+/- 2deg)
PCHP: 150 deg (+/- 2deg)
CPL: 22 deg (+/- 2deg)
Cooling plate temperature control system: PID Controller
Spin developer head: 4D
Functions for developer coater heads:
(2) Developer lines with H Nozzle / DIW Center rinsing
Developer dispense: N2 Pressure
DIW Rinse with flow meter:
Top-side
Back-side
Programmable exhaust damper (Screen std)
Filter for developer and DIW (Pall DFA1FTS 64M, 0.1um):
CHUV2LOP1
UPE Filter: 100 nm
Developer temperature control system: ETU Controller
Chemical cabinet
Drain pans
With leak sensors (Main body and DD cabinets)
Double containment for chemical lines: DD Cabinet to main body (EBR / Cup rinse)
TEL Tower lamp
Power requirements: 220 V, 3 Phase, 4 Wire, 50-60 Hz
2000 vintage.
TEL （TOKYO ELECTRON） TEL/TOKYO ELECTRON CLEAN TRACK ACT 8是一款先進的光刻設備，專為精確、高精度、納米圖案而設計，性能優於傳統光刻技術。光刻膠系統提供了流線型的設計和操作平臺，確保了最短時間內最一致的結果。該單元的工作原理是，首先將基材暴露在光線下（使用曝光機），然後在基材上施加光刻膠。光致抗蝕劑起到掩蔽層的作用，在需要圖樣的區域阻擋一些光線到達基材。圖樣是通過控制光源的曝光時間、強度和角度，以及光致抗蝕劑的組成來實現的。TEL Clean Track ACT 8設計了一套堅固的操作功能,包括一個自動對焦工具以確保每次都有精確的光刻要求,一個帶氣動門的封閉式腔室,可編程的調節和許多其他功能。此資產的高級功能允許在從微米到亞微米範圍的一系列層/層中進行陣列化,可實現10 nm的最小特征大小。該模型非常適合芯片制造、瞄準半導體器件、微機電系統（MEM）、顯示技術等。光刻設備有兩個主要優點。首先是降低成本，因為只需要使用一個光刻系統，而不是多個光刻模塊。第二種是改進的吞吐量,因為可以快速繪制陣列,而不會受到操作員的任何手動幹擾。除此之外，該單元還可以針對特定的應用需求進行優化，以便在更短的時間內產生更精確的結果。可調整特征的例子包括光致抗蝕劑的化學成分、基材的層厚度和圖樣收縮系數。TOKYO ELECTRON CLEAN Track ACT 8光抗蝕器機為納米級電子器件的數據驅動開發和陣列設計提供了理想的平臺。該工具縮短了周轉時間,提高了結果,既提高了成本效率,又改進了技術流程。它是客戶尋找可靠、經濟高效的平臺開發先進、高科技應用的完美解決方案。
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