二手 TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8 #9198616 待售

TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8
ID: 9198616
晶圓大小: 8"
(3) Coater / (4) Developer system, 8" Right to left wafer flow (4) UNCs IFB DUV Open cassette Interface for ASML PAS 5500 Dual block.
TEL/TOKYO ELECTRON CLEan Track ACT 8是利用無掩模曝光系統產生高品質光刻圖案的光刻設備。它使用激光的多核光束照射晶圓表面上的正向或負向光致抗蝕層。激光由液晶百葉窗調制,使圖樣化的光電子能精確形成所需的圖樣。該單元還包括一個石英基板級,無需用戶幹預即可自動移動,以調整圖樣制作過程中的曝光區域。激光源功耗低,無臭氧。該機設計為產生高分辨率的圖樣,精確對準和處理各種光刻膠。它支持清潔室內操作,低顆粒汙染和最小靜電發電。該工具高效、經濟高效,不需要昂貴的口罩制作,並減少了冗長的蝕刻和幹洗工藝步驟。該資產還允許光刻膠從負向正向曝光以創建多層圖樣,而無需額外的處理步驟。對於每一種光刻膠,模型還被設計為優化工藝條件和工藝設置,可以根據各種工藝要求進行調整。該設備最多可在內存中存儲8種配方,並可根據工藝設置調整曝光時間和激光功率。此外,系統還包括一個實時監視器,讓用戶可以輕松適應不斷變化的環境條件,跟蹤曝光模式的進展。這種光敏裝置提供出色的分辨率,對準,和精確圖案的光敏。低功耗和無臭氧激光源使其適合潔凈室應用,而其成本效益和節省時間的特點使其成為研究人員和制造商的寶貴工具。此外,機器的內置顯示器和配方存儲使其成為制造光刻照相口罩的極其高效和可靠的解決方案。
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