二手 TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8 #9198617 待售

TEL/TOKYO ELECTRON CLEan Track ACT 8是一種光致抗蝕劑設備，設計用於需要提高精度、分辨率和清潔度的沈積過程。它的設計采用了光刻工藝的先進特性和技術，並針對涉及高溫和/或高抗性物理的工藝進行了優化。它能夠以最小的物理接觸來提高沈積特性的可控性和準確性。TEL Clean Track ACT 8使用先進的光阻技術，在特定循環的過程中實現精確的原子層沈積。這項技術以最小的物理接觸提供了對特征的精確控制，從而能夠高效的光刻工藝生產。該系統包括等離子體增強型化學氣相沈積（PECVD）、多級灰化（MSA）和LPCVD（低壓化學氣相沈積）技術，以實現精確的原子層沈積。該單元還包括用於需要高溫的光刻工藝的高抗性物理技術。TOKYO ELECTRON CLEan Track ACT 8設計有獨特的腔室結構和集成的機器人手臂，以最小的物理接觸確保最佳效果。這項技術還能提供比傳統光刻工藝更高分辨率的精確蒙版。集成機器人臂的設計是為了提高沈積過程的靈活性和精確控制。Clean Track ACT 8能夠處理多種基材，包括常見的不銹鋼、鋁和石英材料。該機還能夠在低溫下塗覆和揮發薄膜和厚膜。此外,該工具能夠在批處理和連續過程中運行。TEL/TOKYO ELECTRON CLEAN Track ACT 8產生高質量的沈積結果，廢物最少，物理接觸最少。憑借其先進的特性和技術，能夠生產出比傳統光刻工藝分辨率更高的精密口罩。它是需要提高精度、分辨率和清潔度的沈積過程的理想資產。