二手 TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8 #9219615 待售

TEL/TOKYO ELECTRON ACT 8是一款為集成電路制造而設計的「深紫外線」光刻設備。光致抗蝕劑是一種光敏材料，用於半導體制造過程中，在各層上創建特征。TEL ACT 8系統的設計與市面上的其他光刻膠相比，能提供非常高的靈敏度和分辨率。TOKYO ELECTRON ACT 8單元由兩個獨立的組分組成：負光抗蝕劑和酸擴散屏風。使用噴霧或自旋塗層技術將負性光刻膠塗在基板上。當暴露在強度足夠的紫外線下，會聚合，變得不溶性和不吸收性。這允許創建細線和其他結構。在光致抗蝕劑之後應用的酸擴散篩網用於控制形成特征的大小。它與光刻膠的選定成分發生反應，形成一層微觀氣泡，充當蝕刻面膜。這層比周圍的光刻膠具有更高的蝕刻速率，允許形成較小的特徵。光致抗蝕劑和酸擴散篩選的硬化確保了其特性穩定且不受汙染。這些特性隨後可以用於後續的光刻，允許進一步的電路形成。ACT 8機器在暴露速度、靈敏度和分辨率方面提供了優勢。由於其靈敏度高，可以使用較短的曝光時間，這轉化為更高的生產吞吐量。它還具有生產低至0.2微米分辨率和低至0.1微米空間的生產線的能力，使其適合最新的IC制造工藝。TEL ACT 8工具是尋求高可靠性和高分辨率光刻膠解決方案以滿足集成電路制造需求的用戶的絕佳選擇。其快速的曝光速度、靈敏度和準確性意味著它將承受最苛刻的生產條件。