二手 TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8 #9237166 待售
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ID: 9237166
晶圓大小: 8"
優質的: 1999
(2) Coater / (3) Developer system, 8"
R-Type
Inline type
Hard Disk Drive (HDD)
(4) Loaders
(2) Blocks
(2) Adhesion (ADH) process stations
(12) Low temperature Hot Plate (LHP) stations
(2) High temperature Hot Plate (HHP) Process stations
(8) Chilling Plate (CPL) Process stations
(4) Chilling Hot Plate (CHP) Process stations
(2) Shuttle (SHU) Modules
(2) Cup Washer Holder (CWH) Units
(4) Transition Stage Units (TRS)
Coat process station (COT):
(3) Nozzles
RRC Pump
Solvent automatic supply: 3L (2) Buffer tanks
Side rinse (EBR)
(2) Back Side Rinses (BSR)
Develop process station (DEV):
Single nozzle
H Nozzle
Solution automatic supply: 3L (2) Buffer tanks
(2) Rinse nozzles
(2) Back side rinses
IFB
EIS Type: ASML
WEE
AC Power box
Chemical box
Temperature controller
T&H: KOMATSU 1821
MFC
1999 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON CLEan Track ACT 8是由集成電路（IC）制造設備的領先制造商TEL開發的光阻設備。TEL Clean Track ACT 8具有四點接觸系統和高性能、低角度清洗程序。為了保持光刻制品的最高標準，TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8有助於保持幹凈的基板表面，同時保證穩定可靠的抗生長能力。Clean Track ACT 8單元設計用於改進微處理器和其他IC傳感器的光刻層,提供高精度、高分辨率的陣列。為此，該機器使用兩個主要組件：光學步進器和紫外線光源。光學步進器由兩個反射鏡和透鏡組成，這些反射鏡和透鏡為光致抗蝕劑沈積在基板上創造了所需的圖樣。紫外線光源提供基板的均勻照明。該工具提供了一種低角度清洗程序，可確保表面汙染物不會幹擾光刻層。即使在形成圖案層的最關鍵階段，它也能清潔表面。TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8的低角度清洗程序有助於去除顆粒、吸附劑和其他可能造成缺陷的材料。TEL Clean Track ACT 8的四點接觸資產將基板對準光學步進器的精密插槽。該模型使用精確對準設備將基板精確對準移動的光學元件，以便對光刻膠薄膜進行精確的制圖。這樣可以確保薄膜均勻和徑向地塗在基板上。TOKYO ELECTRON CLEAN TRACK ACT 8的過程監視和控制系統持續監控各級操作和參數，從而保證了一致和可重復的抗厚度。這有助於確保提高產量和無缺陷的制造結果。CleanTrackACT 8是一種有效的光敏沈積方法.它有助於保持底物的清潔度，並確保穩定和可靠的抵抗生長，同時提供高分辨率的模式與最小的缺陷。
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