二手 TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8 #9241869 待售
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已售出
ID: 9241869
晶圓大小: 8"
(2) Coater / (2) Developer system, 8"
I-Line
Single block system
Wafer flow: Left to right
Process block: Single block system
Block 1(C/S Blk):
CS Add on board missing
Main controller: ACT #2
Y,Z,Th Motor, X,Y,Z,Th Drive
Touch screen
Pincette
Block 2(P/S Blk)
(2) Spinner I/O boards missing
(2) Coater units (2-1, 2-2)
Direct drain type
(2) PR Nozzle assemblies
(4) Back rinses
(2) EBR Nozzles
(2) Out cup assemblies
(2) Nozzle changer motors
(2) Spin motors & drivers
(2) Developer units: (2-3, 2-4)
(2) Spinner I/O boards missing
(4) Back rinses
(2) H Nozzle assemblies
(2) Out cup assemblies
(2) Spin motors & drivers
Oven unit:
(7) LHP/ Low temperature hot plates
(4) CPL/ Chill plates
TCP
(2) TRS / Transfer stations
(2) ADH/ Adhesion process stations
PRA / Process block robotics arm:
Missing part: Pincette
TH Drive
PRA Motor
Missing parts:
(4) ADH Inject valves
(10) Air valve (AMDZ1-X61)
(2) DEV Drine bottles
Power cable
THC: T&H-NRE-2-A-00
Power box: PB2-U200-03-DV2
TCU.
TEL/TOKYO ELECTRON ACT 8是由TEL Ltd制造的光刻設備。（TOKYO ELECTRON）.它設計用於半導體和其他相關行業，用於蝕刻或塗覆直徑不超過8英寸的晶片。它利用激光直接成像系統向光刻塗層晶片傳送精確的圖像。該單元由三個基本組件組成：掃描頭、控制卡和主動室。掃描頭使用來自兩組激光器的激光來執行光刻塗層晶片的成像。控制卡使掃描頭能夠產生具有適當間距和分辨率的光束。它還包含實時檢測光束位置的數字電路板和接收器，從而在需要時調整分辨率。活性室便於從機器上裝載和卸載晶片以及激活光致抗蝕劑。該工具利用了一種稱為雙狀態抗蝕劑（DSR）特征的新型光抗蝕劑資產。此功能使用戶可以在調整兩個應用程序之間的特征寬度的同時,將兩種不同類型的光刻膠應用於同一晶片。TEL ACT 8利用先進的高光功率調諧、激光波長柔韌性、多級中心手性和磁場調諧等多種先進技術，為光刻塗層晶片提供精確可靠的成像。此外，光致抗蝕劑具有較高的靈敏度和良好的阻抗控制，即使在激光束強度變化的情況下也能提供準確的結果。模型還具有廣泛的自動控制設備,使用戶可以通過圖形用戶界面通過單擊按鈕提交已檢查的參數集。然後,該系統將所有相關設備連接起來,並以完全準確的方式指示過程參數。該單元的另一個重要方面是其安全高效的SEH操作軟件。此軟件可通過PC訪問,因此用戶可以與機器或其他連接的設備進行通信,保存數據以進行刀具召回,並遠程操作資產。SEH操作軟件還使用戶能夠實時監視模型內發生的所有活動。最後，TOKYO ELECTRON ACT 8提供了一個人性化的環境和自動維護功能，允許其用戶在人工和能源方面提高生產率和降低成本。
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