二手 TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8 #9281143 待售
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已售出
ID: 9281143
System, 8"
Main controller
Process type: DUV, Arf, Krf
Cassette block: 4-Stage
Process block: Dual block
Interface block: WEE
SHU
IRA
Spinner units:
Unit / Nozzle quantity / Pump / Nozzle type
2-1 COT / (3) / RRC
2-2 COT / (3) / RRC
3-1 DEV / (1) / H Nozzle
3-2 DEV / (1) / H Nozzle
3-3 DEV / (1) / H Nozzle
Bake units:
(8) CPL
(4) CHP
(12) LHP
(2) ADH
(4) TRS
(2) HHP
Chemical supply:
Thinner chemical supply: CCSS, (2) Buffer tanks
Dev solution supply: CCSS, (2) Buffer tanks
HMDS Chemical supply: CCSS, (2) Buffer tanks
Coat drain type: Direct drain type
Dev drain type: Direct drain type
Sub-module:
TEL AC Power box
Cup temperature / Humidity
TEL Chemical cabinet
(2) SMC Temperature Control Units (TCU)
Missing parts:
Temperature / Humidity
Oven cover
IRA Theta driver
IRA Z Driver
IRA Z Motor
1999 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON ACT 8是以日本為基地的主要電子製造商TEL（TOKYO ELECTRON Limited）製造的光刻膠設備。該系統設計用於半導體制造設施，用於制造尺寸小於10nm的晶圓產品。這個單元是一個「單曝光」的光刻機，意味著它以單一劑量的紫外線（UV）曝光晶片，或稱「閃光燈」，使其成為處理較小規模設備的理想選擇。TEL ACT 8工具結合了高度穩定的光源、步進式晶片級以及相關的光學和光學系統，以紫外線精確地曝光晶片。資產的主機允許管理暴露的陣列處理。利用TOKYO ELECTRON ACT 8模型，可以使用多層的光刻膠在晶圓上創建所需的電路設計。光致抗蝕劑用作創建最終設備的蝕刻掩碼,從而阻止晶片的某些部分暴露於蝕刻過程中。設備在曝光前自動分配和烘烤光刻膠，允許快速處理。完成所需的陣列處理後,晶圓即可用於蝕刻過程。該系統通常使用單艙口蝕刻，其中蝕刻氣體用於被蝕刻層中的反應性分子，並在下面的矽中形成圖樣。TEL/TOKYO ELECTRON ACT 8單元也允許多艙口蝕刻，其中使用多層光刻膠以產生更小的特徵和更細膩的設計。該機可靠性高，光源和光學器件壽命長。此外，該工具使用激光和軟件，以確保一個高度精確，甚至光刻曝光。ACT 8資產的並行處理能力使其能夠快速處理多層復雜的光刻膠圖樣，以確保比以往想象的更好的高質量集成電路。總而言之，TOKYO ELECTRON ACT 8光刻膠模型是一種高度精確的單曝光光刻膠設備，設計用於快速制造先進集成電路。該系統可靠的光源和光學設備,以及單艙口和多艙口蝕刻功能,使其成為半導體制造設施的理想選擇。
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