二手 TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8 #9382447 待售

TEL/TOKYO ELECTRON CLEAN TRACK ACT 8是半導體製造業中使用的一種最先進的光刻蝕刻工藝設備，用於高保真度的超細圖樣形成。其主要特點是先進的「Act In/Out」系統，在同一腔室內用兩種不同類型的激光處理晶圓表面，與單攝入工藝相比，允許更高的蝕刻均勻性。TEL Clean Track ACT 8單元采用兩步蝕刻方法。首先，一種無泵光限制脫氫工藝（LRD）利用聚焦激光蒸發晶圓表面上沈積的雜質。其次，采用低功率直通激光器在極低的溫度下將光敏沈積在一個通道中，這種兩步過程產生極薄且均勻的光敏圖樣和高度受控的邊緣輪廓，而無需濕法處理。該機還具有高精度的索引，從而產生高保真度的光刻膠放置，這對蝕刻過程至關重要。這是通過使用精密舞臺運動控制和集成模式識別算法實現的。該工具還采用了獲得專利的「自適應照明模式」，確保光照強度始終在晶圓上均勻，以及「鏡面和玻璃」光學器件，即使在極端溫度下也能持續聚焦激光並保持圖像分辨率。此外,該資產還具有優化的光刻蝕刻工藝.此過程使用雙模擬器工作站而不是單個應用程序,以實現最大的均勻性和高分辨率成像。最後，TOKYO ELECTRON CLEAN TRACK ACT 8配備了精密的軟件，跟蹤所有參數和工藝，以實現極精確的蝕刻和優異的產量。綜上所述，Clean Track ACT 8是一種下一代光刻蝕刻工藝模型，旨在實現極精確的圖案形成和超精細邊緣的高精度。它采用了一個蒸發汙染物、一次應用光刻膠的兩級工藝，並具有先進的激光操縱系統、獨特的「自適應照明模式」和強大的軟件平臺，對蝕刻工藝進行精確控制。