二手 TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track Lithius Pro #9218786 待售
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已售出
ID: 9218786
晶圓大小: 12"
優質的: 2007
Coater / Developer system, 12"
Multi block
Track config 1:
(3) Coat cups
(3) Barc cups
(3) Top coat cups
(6) Developer cups
(3) CADH
Track config 2:
Resist reduction: SRRC
Dev nozzle1: GP
Dev nozzle2: LD
Resist pump: CRD 3ml
Bevel rinse: Ver 2
Oven config:
PEB: (4) CPHP
BCT: (5) CGHA
COT: (4) CGHP
ITC: (4) CGHA
Post bake: (4) CLHA
Track chemicals:
Resist supply: Gallon bottle
Thinner: OK73, LA95
FIRM: SPC-116A
Block diagrams
2007 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track Lithius Pro是一款先進的光刻設備,設計用於在各種基材上執行高度控制和精確的光刻工藝。光刻,又稱光掩模技術,是利用光在兩種獨立的材料之間傳遞圖樣的方法。Lithius Pro由於其對光和化學物質的高靈敏度,能夠為廣泛的光掩碼應用提供卓越的精度。它是一個同時使用SynchroScan和AsyncScan光掩碼技術的系統,可同時提供高速掩碼結構的掃描和處理功能。Lithius Pro設計用於多種光刻材料,包括正塗層、負塗層和自旋塗層。光致抗蝕劑是一種感光材料的薄膜,它被施加在一種基板上,例如矽片基板,以便形成該材料的圖樣。結合AsyncScan和SynchroScan光掩碼技術,Lithius Pro提供了最佳的模式維護和高長寬比精度。該單元具有為光掩模和光刻膠應用而設計的多項高級功能,如動態掃描速度控制機、自動調音和精確的焦點檢測工具。Lithius Pro通過內置程序(如校準向導),提供了簡單、精確的設置過程,該程序簡化了校準和校準,以實現最高的準確性和可重復性。它還提供了多種標準和特殊的清潔協議,如真空夾緊清潔模式,以及用於去除油脂、灰塵和其他汙染的變溫清潔模式。內置的檢查能力允許重復和統一的檢查結果。這些功能使Lithius Pro成為用於精確光掩模和光刻膠應用的強大工具。它能夠在廣泛的基板上執行復雜的陣列,並具有可重復的結果。該資產的設計易於安裝,並提供直觀的控制以及廣泛的生產效率和安全功能,使其成為需要光刻系統提供高精度和高效率的用戶的理想選擇。
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