二手 TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track Lithius #293595689 待售
網址複製成功！
單擊可縮放
ID: 293595689
晶圓大小: 12"
優質的: 2004
Coater / Developer system, 12"
In-line with CANON ES6
(4) Loaders
TEL Photoresist processing system
FOUP Carrier station: 4 Side loading
(2) Process station blocks
Wafer edge with inline thickness measurement system
CAR Capable
DEV Solution supply system
FIRM Supply system
NH3 Monitor ports specification
CANON Interface station
Online communication (GJG)
S2-0302 Safety compliance
(3) P.Resist coater units
(2) BARC Resist coater units
(5) Developer units
LD Nozzle
(3) Adhesion process units
(6) Chill Plates (CPL)
(2) Water Controlled Chilling Plates (WCPL)
(5) Chilling Low Temperature Hot Plates (CLHP)
(10) Chilling High Precision Hot Plates (CPHP)
(2) External chemical cabinets
T and H controller cup
AC Power box
HPT Pump:
(4) Nozzles per cup
(6) Nozzles per cup
Direct drain:
COT
BCT
DEV
Solvent supply system:
COT
BCT Unit
Power supply: 208 VAC, 3 Phase
2004 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track Lithius是一款光刻設備，旨在改善半導體制造中集成電路的生產。該系統由兩個組件組成，當串聯使用時，可實現更清潔、更準確的微電路開發。該單元由Lithius清潔劑和Clean Track腔室組成，這兩個組件均由TEL設計。鋰清潔劑使用溶劑剝去晶圓表面的雜質和殘留物。這使得光刻膠能夠在晶片上進行清潔和精確的處理。當使用清潔劑時，它與汙染物結合，在一個應用程序中去除它們。雖然鋰能夠清洗多種殘留物，但它適用於大多數光致抗蝕劑系統，包括TOKYO ELECTRON開發的那些。清潔履帶室是一個密封室，有一個獨特的晶圓架。晶片放在密封空間的支架上，用於引入鋰清潔劑。然後將晶片暴露在紫外線下，從而催化光刻光刻機的清理過程。這種情況發生在一個封閉的空間，防止環境汙染，如灰塵和濕度，這可能會阻礙發展進程。鋰清潔劑和清潔履帶室的聯合應用使詳細的結構能夠安全和有效地加工成晶片。這允許在制造集成電路時提高集成級別和準確性,並提高產量和吞吐量。總之，TEL Clean Track Lithius是一種高效高效的光刻工具，非常適合集成電路的制造。清潔履帶室的固有清潔環境以及快速清理溶劑可實現詳細、準確的結構處理,提高廣泛應用的產量和吞吐量。
還沒有評論