二手 TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track Lithius #9227626 待售

TEL/TOKYO ELECTRON CLEAN Track Lithius （CTL）是一款專用的光阻設備,旨在提供可靠、高性能的光阻陣列解決方案,具有靈活性和可擴展性,以滿足新興技術的需求。CTL系統提供了一系列的光刻、蝕刻和表面處理功能,可在各種基板上快速完成光刻反轉和微加工過程。CTL單元支持各種常規和先進的光致抗蝕劑材料，如正向、負向和高級矽烷化和納米顆粒抗蝕劑，使客戶能夠根據自己的特定應用需求選擇最佳的抗蝕劑機器。CTL還能夠自動控制多個過程，包括暴露、速度、氣流以及每種特定類型的抗蝕劑的參數。這使用戶無需人工幹預即可實現在線原型生產或快速多層流程開發。CTL工具的主要組成部分包括一個帶有8英寸FPD基板支架的集成工作站、一個具有各種照明源的6英寸曝光平臺、一個具有多達9個同時蝕刻或沈積源的蝕刻模塊以及一個便於基板垂直運輸的直通資產。曝光平臺擁有45 x 25平方英寸的成像場，提供線寬低至0.2微米的陣列設備的能力。CTL模型還包括一個配備了軟光刻能力、真空表面處理和等離子體蝕刻功能的先進平臺。CTL設備配備了自動化的物料處理系統和高速處理能力。CTL系統的自動化旨在顯著減少等待時間和用戶關聯的流程步驟,從而使用戶能夠快速、高效地制作原型並處理各種材料。使用CTL單元,用戶可以輕松執行精確的光掩碼設計和生產過程,以及精確的沈積端點,一致的抗蝕性輪廓控制,以及改進的抗蝕性覆蓋對齊精度。CTL機器還支持全局介電蝕刻選擇性和精確蝕刻輪廓，使用戶能夠以最短的時間和成本在幾種基板和技術上實現設備模式。CTL工具非常可靠,需要最少的維護,使用戶能夠在資產的整個生命周期中實現一致、可預測的流程結果。該模型緊湊且具有成本效益,旨在與其他處理工具集成,以實現全自動生產過程。TEL CTL具有高性能和自動化功能,是滿足工業和研究光刻膠加工需求的理想解決方案。