二手 TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track Lithius #9267420 待售
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ID: 9267420
晶圓大小: 12"
System, 12"
Cassette stage block
SMC Thermo-Con block
Plate stacks
Coat develop module
AC Power box
Miscellaneous panels.
TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track Lithius是一款光刻設備，其特點是能夠降低光刻工藝的尺寸和復雜性，提高清潔工藝的清潔度和生產率。TEL Clean Track Lithius系統是一種模塊化和模塊化的技術解決方案,用於掩蔽/蝕刻和清潔技術。適用於量產和限量加工。該裝置具有超短波長光源，可實現高分辨率的光掩模圖樣，並提高清潔性能。這也可以開發更高分辨率的蒙版/放置圖案,並減少圖案的最小間距。通過使用低維圖案（2至4種顏色）優化圖案布局。與傳統的抗蝕劑處理技術相比，光致抗蝕劑層是單步應用的，從而提高了吞吐量並降低了復雜性。TOKYO ELECTRON Clean Track Lithius也將一臺先進的清潔機融入到模式化過程中。清潔工具結合了濕式化學和幹式顆粒清洗工藝。濕蝕刻工藝利用高壓（1.7至3.5 mPa）化學溶液，從基材中去除光敏材料。幹粒清洗過程使用各種尺寸的顆粒，從基材中去除任何殘留的光致抗蝕劑。這兩種清潔工藝的結合可以實現更高的吞吐量和更清潔的光刻膠圖案。Clean Track Lithius還提供了用於檢查和過程監控的在線監控資產。模型測量抵抗材料的光強度，並使用施加的光強度在光強度在可接受範圍之外時生成警告信號。該設備還可用於測量加工過的基板的清潔度，使工程師能夠在光刻膠應用過程前識別任何清潔缺陷。此外，TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track Lithius還結合了智能表殼處理（ICH），用於快速精確的圖樣放置。ICH利用多軸定位分析儀來識別圖樣繪制過程中基板的準確位置。由此產生的模式放置是統一和精確的，從而實現更高的產量率和更大的過程穩定性。總之，TEL Clean Track Lithius photoresists system是一種先進、先進的光掩模和蝕刻圖案技術解決方案。該裝置旨在減少平版印刷工藝的尺寸和復雜性，同時提高清潔工藝的清潔度和生產率。總體結果是產量提高，吞吐量提高，均勻性提高，工藝穩定性提高。
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